[發(fā)明專(zhuān)利]c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法及設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210147842.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102644113A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉海濱;方建雄;金啟源;周虹;金鎬辰;董新義 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州海鉑晶體有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C30B29/20 | 分類(lèi)號(hào): | C30B29/20;C30B11/00 |
| 代理公司: | 蘇州慧通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32239 | 代理人: | 丁秀華 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 取向 藍(lán)寶石 生產(chǎn) 方法 設(shè)備 | ||
1.一種c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于,該方法為:將c向籽晶和純度在99.999wt%以上的高純氧化鋁原料在真空環(huán)境中加熱,使高純氧化鋁原料開(kāi)始熔化,并使籽晶部分熔化,其后以0.1℃~2℃/h的速率緩慢降溫,將固液界面控制為曲面形態(tài),且使曲面的頂點(diǎn)到達(dá)自由液面,而后提高降溫速率至0.2℃~5℃/h,使生長(zhǎng)好的具有曲面結(jié)構(gòu)的芯逐漸側(cè)向生長(zhǎng),至熔體結(jié)晶結(jié)束,最后將生長(zhǎng)好的晶體以4℃~100℃/h的降溫速率冷卻至室溫,取出晶體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于,所述真空環(huán)境是指氣壓在5Pa以下的封閉環(huán)境。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于,該方法中,在對(duì)c向籽晶和高純氧化鋁原料加熱的過(guò)程中,還同時(shí)對(duì)c向籽晶進(jìn)行冷卻,使籽晶保持部分熔化的狀態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于,所述曲面結(jié)構(gòu)優(yōu)選為圓錐面、球冠形面或橢球冠形面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于,所述圓錐面的母線與c面的夾角為10°~80°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于:
所述籽晶為圓柱體結(jié)構(gòu),其直徑為20mm~60mm,高度為10mm~50mm:
或者,所述籽晶為桶狀結(jié)構(gòu),其外徑為40mm~150mm,內(nèi)徑為20mm~130mm,深度為10mm~500mm,高度為20mm~600mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)方法,其特征在于,所述高純氧化鋁原料優(yōu)選自Al2O3粉料、Al2O3餅料、粒狀A(yù)l2O3及藍(lán)寶石碎晶中的任意一種或兩種以上的組合。
8.一種c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)設(shè)備,包括加熱腔體、環(huán)繞加熱腔體設(shè)置的加熱元件以及與加熱腔體連通的真空系統(tǒng),其特征在于:
所述加熱元件內(nèi)壁底端至頂端與加熱腔體外壁之間的水平距離逐漸增大;
和/或,所述加熱腔體外壁上對(duì)應(yīng)于c向籽晶的裝載位置形成槽型結(jié)構(gòu),所述槽型結(jié)構(gòu)與冷卻系統(tǒng)連接;
和/或,所述加熱腔體上方還對(duì)稱(chēng)分布有復(fù)數(shù)傾斜設(shè)置的熱屏,且所述熱屏于水平面上的正投影至少部分與加熱腔體重合。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)設(shè)備,其特征在于,所述加熱腔體為上端開(kāi)口的筒形結(jié)構(gòu),所述加熱元件具有倒梯形橫截面。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的c取向藍(lán)寶石單晶的生產(chǎn)設(shè)備,其特征在于,所述熱屏下端低于加熱腔體上端面,其上端沿徑向向內(nèi)傾斜。
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