[發明專利]真空室的真空度控制機構、包括該機構的接合裝置、真空室及接合裝置的真空度控制方法無效
| 申請號: | 201210147508.5 | 申請日: | 2012-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN102848695A | 公開(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發明(設計)人: | 和田周平 | 申請(專利權)人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | B32B37/10 | 分類號: | B32B37/10;B32B37/06;B32B41/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 張鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 控制 機構 包括 接合 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及例如利用熱壓接將板狀或箔狀的貼合用基材進行接合時所使用的真空室的真空度控制機構、包括該真空室的真空度控制機構的接合裝置、真空室的真空度控制方法、以及接合裝置的真空度控制方法。?
背景技術
以往,已提出有涉及即使簡易、低成本,也能在保護真空泵的情況下以節電的方式對真空室內的真空度進行控制的控制機構和控制方法的技術。?
該控制機構是對實施層疊成形的真空室內的真空度進行控制的控制機構,該控制機構包括控制裝置,該控制裝置根據對測量真空室內的真空度的真空傳感器的檢測值所設定的規定幅值的滯后,使與真空室相連接的真空泵起動、停止,從而對真空室內的真空度進行控制(參照專利文獻1)。?
現有技術文獻?
專利文獻?
專利文獻1:日本專利特開2009―298007號公報?
發明內容
然而,上述控制機構是通過開啟/關閉對真空泵、氣體供給裝置進行控制的閥來進行動作的類型,因而,在開啟/關閉閥時真空壓力發生較大的變動,因此,存在真空壓力控制的精度較差的問題。?
為此,本發明的目的在于提供能以簡易的結構提高真空壓力控制精度的真空室的真空度控制機構、包括該真空室的真空度控制機構的接合裝置、?真空室的真空度控制方法、以及接合裝置的真空度控制方法。?
第一發明是用于控制真空室的真空壓力值的真空室的真空度控制機構,其特征在于,包括:用于對所述真空室抽真空的真空路徑;將氣體導入所述真空室的流量調節閥;以及對所述流量調節閥的開閉率進行控制的控制部,所述控制部根據所述真空室的真空壓力值對所述流量調節閥的開閉率進行控制,將所述真空室的真空壓力值調整為目標真空壓力值。?
在此情況下,優選所述流量調節閥將惰性氣體導入所述真空室。?
在此情況下,優選所述流量調節閥是質量流量控制器,所述控制部是PID控制器。?
第二發明是接合裝置,該接合裝置具有加壓機構、以及被所述加壓機構施加加壓力的熱盤部,所述熱盤部在所述加壓力的作用方向上配置有多個,使在所述加壓力的作用方向上相鄰的所述熱盤部彼此相互層疊,從而在所述熱盤部之間形成真空室,在所述真空室內將貼合用基材彼此熱壓接以使其進行接合,所述接合裝置的特征在于,包括:用于對所述真空室抽真空的真空路徑;將氣體導入所述真空室的流量調節閥;以及對所述流量調節閥的開閉率進行控制的控制部,所述控制部根據所述真空室的真空壓力值對所述流量調節閥的開閉率進行控制,將所述真空室的真空壓力值調整為目標真空壓力值。?
在此情況下,優選所述流量調節閥將惰性氣體導入所述真空室。?
在此情況下,優選形成有多個所述真空室,形成有將所述真空室彼此之間進行連通的連通路,多個所述真空室同時抽真空。?
在此情況下,優選所述流量調節閥是質量流量控制器,所述控制部是PID控制器。?
第三發明是用于控制真空室的真空壓力值的真空室的真空度控制方法,使用真空路徑及流量調節閥,所述真空路徑用于對所述真空室抽真空,所述流量調節閥將氣體導入所述真空室,在對所述真空室抽真空的狀態下,通過增大所述流量調節閥的開閉率,使導入所述真空室的氣體流量增加,或通過減小所述流量調節閥的開閉率,使導入所述真空室的氣體流量減少,?通過改變所述流量調節閥的開閉率來控制真空室的真空壓力值。?
在此情況下,優選所述流量調節閥將惰性氣體導入所述真空室。?
第四發明是接合裝置的真空度控制方法,所述接合裝置具有加壓機構、以及被所述加壓機構施加加壓力的熱盤部,所述熱盤部在所述加壓力的作用方向上配置有多個,使在所述加壓力的作用方向上相鄰的所述熱盤部彼此相互層疊,從而在所述熱盤部之間形成真空室,在所述真空室內將貼合用基材彼此熱壓接以使其進行接合,所述接合裝置的真空度控制方法的特征在于,使用真空路徑、流量調節閥、及控制部,所述真空路徑用于對所述真空室抽真空,所述流量調節閥將氣體導入所述真空室,所述控制部對所述流量調節閥的開閉率進行控制,所述控制部根據所述真空室的真空壓力值對所述流量調節閥的開閉率進行控制,將所述真空室的真空壓力值調整為目標真空壓力值。?
在此情況下,優選所述流量調節閥將惰性氣體導入所述真空室。?
根據本發明,能以簡易的結構提高真空室的真空壓力控制的精度。?
附圖說明
圖1是包括本發明一實施方式所涉及的真空室的真空度控制機構的接合裝置在熱盤部重疊的狀態下的結構圖。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社村田制作所,未經株式會社村田制作所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210147508.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:半導體裝置及其測試方法
- 下一篇:電荷快速轉移的大尺寸四管有源像素傳感器





