[發明專利]一種新型雙面導電膜制作工藝

無效

• 申請號: 201210147043.3
• 申請日: 2012-05-14
• 公開（公告）號: CN102664076A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: 郝懷慶;蔡榮軍;于甄;呂敬波
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光科技有限公司
• 主分類號: H01B13/00
• 分類號: H01B13/00;H01B5/14
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 施秀瑾

技術領域

本發明涉及一種透光率較高的新型雙面導電膜，該導電膜可廣泛應用在平面顯示的制造領域中。

背景技術

近年來平面顯示領域發展很快，尤其是手機觸摸屏，平板電腦觸摸屏等多種電子產品的按鍵方式由傳統的機械按鍵向觸控按鍵方式轉變，其市場需求呈現上升趨勢，ITO導電膜作為觸摸屏制造中的重要原材料，處于供不應求的狀態。

過去，觸摸屏制造工藝需要上線和下線兩層單面導電ITO膜，在企業工藝不穩定期，其產品的印刷和貼合良率較低，而ITO膜又是價格相對高昂的電子產品，大量的報廢，就壓低了企業的利潤，甚至有企業虧損。即使有些企業的良率較高，兩層單面導電ITO膜的使用，也使其利潤空間不高。

目前為了提高利潤壓低成本，有些企業在尋找新材料，希望可以替代ITO膜；也有些企業在尋找新工藝，以期待在不改變觸摸屏功能的情況下尋求突破。

發明內容

為了克服上述缺陷，滿足市場需求，本發明目的為在單層柔性透明基材兩個面上完成導電膜的制作工藝。

為了達到上述目的，本發明采用如下技術方案：一種新型雙面導電膜制作工藝，該膜的結構為該雙面導電膜的中間層為柔性透明薄膜，自柔性透明薄膜的上表面依次向上有加硬層、粘結層、高折射率介質層、低折射率介質層、氧化銦錫透明導電層；自柔性透明薄膜的下表面依次向下有加硬層、粘結層、高折射率介質層、低折射率介質層、氧化銦錫透明導電層，其制作工藝的如下：

柔性透明薄膜，為聚對苯二甲酸乙二醇酯，柔性透明薄膜是一種折射率為1.4-1.5的柔性材料；

加硬層是對柔性透明薄膜的表面硬化處理層，是以涂布的方式在柔性透明薄膜的上下兩個表面完成加硬層的制作；

粘結層以磁控濺射的方式濺射到加硬層表面的，鍍制粘結層的主要目的是使加硬層和高折射率介質層更牢固的貼合在一起；

高折射率介質層，一種折射率介于1.8-2.5之間的高折射率材料；

低折射率介質層，一種折射率介于1.4-1.8的低折射率材料；

氧化銦錫透明導電層是通過磁控濺射的方法將銦錫氧化物從靶材表面轟擊出濺射到低折射率介質層上，氧化銦錫陶瓷靶材中In₂O₃和SnO₂按照一定的重量份配比摻雜在一起，配比關系在99/1-90/10之間選擇。

粘結層的材料為Si₃N₄、SiO、SiO₂中的一種。

高折射率介質層的高折射率材料優選為Nb₂O₅。

低折射率介質層的低折射率材料優選為SiO₂。

氧化銦錫陶瓷靶材中In₂O₃和SnO₂的重量份配比優選為97/3、95/5、90/10三種的一種。

本發明的有益效果：

本發明制備出來的產品可見光透光率達到85%以上，兩個面的方阻150℃高溫退火后，在（150-300）Ω/□之間，兩個面的方阻可以相同均為150Ω/□、200Ω/□或者260Ω/□等，比如一面為150Ω/□另一面為200Ω/□，其方阻均勻性為±20Ω/□，色差△R即有ITO層和沒有ITO層的可見光反射率差為0.7%±0.3%，滿足現今市場對ITO膜的要求。

附圖說明

圖1為本發明中雙面導電膜的結構示意圖。

圖2為本發明的工藝設備示意圖。

具體實施方式

????為了詳細敘述本發明專利的特點，優勢和工作原理，下面結合說明書附圖和具體實施方式對本發明做進一步的說明，但本發明所保護的范圍并不局限于此。

一種新型雙面導電膜制作工藝，該膜的結構為該雙面導電膜的中間層為柔性透明薄膜1，自柔性透明薄膜1的上表面依次向上有加硬層2、粘結層3、高折射率介質層4、低折射率介質層5、氧化銦錫透明導電層6；自柔性透明薄膜1的下表面依次向下有加硬層2、粘結層3、高折射率介質層4、低折射率介質層5、氧化銦錫透明導電層6，其制作工藝如下：

柔性透明薄膜1，為聚對苯二甲酸乙二醇酯，柔性透明薄膜1是一種折射率為1.4-1.5的柔性材料；

加硬層2是對柔性透明薄膜1的表面硬化處理層，是以涂布的方式在柔性透明薄膜1的上下兩個表面完成加硬層2的制作；