[發明專利]一種基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法無效
| 申請號: | 201210142175.7 | 申請日: | 2012-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN102674325A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發明(設計)人: | 趙夢強;張強;魏飛;田桂麗 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更巖 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 層狀 羥基 金屬 氫氧化物 制備 石墨 方法 | ||
1.一種基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法,其特征在于該方法按如下步驟進行:
1)將層狀雙羥基金屬氫氧化物作為催化劑前驅體放入反應器中;其中所述層狀雙羥基金屬氧化物片的化學組成通式為M2+1-xM3+x(OH)2An-x/n·mH2O;
其中:M2+與M3+的摩爾比值為1~4,x為M3+與(M2++M3+)的摩爾比值;m為層間水分子的個數;M2+為Mg2+、Ca2+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+和Cu2+中的一種或幾種,M3+為Al3+、Co3+、Fe3+和Ru3+中的一種或幾種,An-為n價陰離子,對應的陰離子為Cl-、OH-、NO3-、SO42-和CO32-中的一種或幾種,對應的陰離子還包括有機陰離子以及含Mo或W的同多酸或雜多酸陰離子;
2)將層狀雙羥基金屬氫氧化物升溫至預處理溫度進行煅燒預處理,所述的預處理溫度為300~1200°C;
3)在反應器中通入碳源、氫氣與載氣的混合氣體,其中氫氣:碳源氣體:載氣的體積比為0~2∶1∶0.1~6,在600~1200°C的反應溫度下進行反應,通過化學氣相沉積過程,在層狀雙羥基金屬氧化物片上沉積石墨烯;
4)將化學氣相沉積后獲得的產物進行提純,獲得高純度的石墨烯。
2.按照權利要求1所述基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法,其特征在于:步驟3)中所述的反應過程的空速為1~5000hr-1,氣速為0.01~5m/s。
3.按照權利要求1或2所述基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法,其特征在于:所述的反應器采用固定床、移動床、流化床或它們的組合。
4.按照權利要求1或2所述基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法,其特征在于:步驟2)煅燒預處理氣氛為氮氣、氬氣和氦氣中的一種或者幾種的混合物。
5.按照權利要求1或2所述基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法,其特征在于:步驟3)中所述碳源采用七碳以下的低碳氣體、甲醇、乙醇、苯、環己烷、正己烷、甲苯、和二甲苯中的一種或者幾種的混合物。
6.按照權利要求1或2所述基于層狀雙羥基金屬氫氧化物制備石墨烯的方法,其特征在于:步驟3)中所述的載氣為氮氣、氬氣、氦氣中的一種或者幾種的混合物。
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