[發(fā)明專利]共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板及其制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210139373.8
• 申請(qǐng)日: 2010-07-15
• 公開（公告）號(hào): CN102651344A
• 公開（公告）日: 2012-08-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡?hào)|璋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 友達(dá)光電股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/77
• 分類號(hào): H01L21/77;H01L21/768;H01L27/02;H01L23/528
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;祁建國(guó)

本申請(qǐng)為分案申請(qǐng)，其母案申請(qǐng)的申請(qǐng)?zhí)枮?01010230537.9，申請(qǐng)日為2010年7月15日，發(fā)明名稱為“共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板及其制作方法”。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板及其制作方法，尤其涉及一種利用一連接線段經(jīng)由接觸洞連接兩共通線段的共通線結(jié)構(gòu)、具有上述共通線結(jié)構(gòu)的顯示面板，以及上述共通線結(jié)構(gòu)及顯示面板的制作方法。

背景技術(shù)

顯示面板的陣列基板，例如液晶顯示面板的陣列基板，通常形成有由不同層導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成的導(dǎo)線或電極，例如柵極線、數(shù)據(jù)線、共通線與像素電極等，且在不同層的導(dǎo)電圖案層之間會(huì)設(shè)置有絕緣層以發(fā)揮絕緣效果。當(dāng)不同層的導(dǎo)電圖案層之間需要電性連接時(shí)，例如像素電極與薄膜晶體管的漏極之間需要電性連接時(shí)，會(huì)于絕緣層中形成穿孔(接觸洞)，以使位于絕緣層上像素電極得以通過穿孔搭接在漏極上。然后，有鑒于顯示面板的開口率的規(guī)格不斷提升，穿孔的尺寸必須縮小，但穿孔的縮小會(huì)使得其深寬比加大，而造成了不同層的導(dǎo)電圖案層在搭接時(shí)的可靠度下降，進(jìn)而使得顯示面板的良率無法進(jìn)一步提升。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種共通線結(jié)構(gòu)、一種顯示面板，以及共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板的制作方法，以提升共通線結(jié)構(gòu)與顯示面板的可靠度。

本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供一種制作共通線結(jié)構(gòu)的方法，包括下列步驟。提供一基板，其中基板上設(shè)置有至少一第一共通線段與至少一第二共通線段。接著于基板、第一共通線段與第二共通線段上形成一保護(hù)層。隨后，形成至少一接觸洞貫穿保護(hù)層，以部分暴露出第一共通線段與第二共通線段。之后，于保護(hù)層上形成一連接線段，并使連接線段電性連接接觸洞所暴露出的第一共通線段與第二共通線段。

其中，該第一共通線段與該第二共通線段由一相同的導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。

其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該第一接觸洞部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞部分暴露出該第二共通線段。

其中，另包括于形成該保護(hù)層之前，先于該基板、該第一共通線段與該第二共通線段上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第一共通線段，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該第二共通線段。

其中，該第一接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一階梯結(jié)構(gòu)，且各該階梯結(jié)構(gòu)包括一第一傾斜面、一平面與一第二傾斜面。

其中，形成該第一接觸洞與該第二接觸洞的步驟包括：于該保護(hù)層上形成一光刻膠圖案，該光刻膠圖案包括一開口、一第一區(qū)域與一第二區(qū)域，其中該開口在一垂直投影方向與該第一共通線段以及該第二共通線段部分重迭，該第一區(qū)域與該開口鄰接且在該垂直投影方向未與該第一共通線段以及該第二共通線段重迭，該第二區(qū)域環(huán)繞該第一區(qū)域與該開口，且該第一區(qū)域的厚度小于該第二區(qū)域的厚度；以及利用該光刻膠圖案作為一蝕刻屏蔽對(duì)該保護(hù)層及該絕緣層進(jìn)行蝕刻，以形成該第一接觸洞、該第二接觸洞以及該絕緣層的該階梯結(jié)構(gòu)。

其中，該光刻膠圖案利用一半色調(diào)光掩模或一灰階光掩模加以形成。

其中，該第一共通線段由一第一導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成，且該第二共通線段由一第二導(dǎo)電圖案層所構(gòu)成。

其中，該至少一接觸洞包括一第一接觸洞與一第二接觸洞，該至少一第一共通線段包括兩第一共通線段，該至少一第二共通線段包括兩第二共通線段，該第一接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。

其中，另包括于形成該保護(hù)層與該兩第二共通線段之前，先于該基板與該兩第一共通線段上形成一絕緣層，該第一接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中一者與該兩第二共通線段的其中一者，且該第二接觸洞貫穿該保護(hù)層與該絕緣層以部分暴露出該兩第一共通線段的其中另一者與該兩第二共通線段的其中另一者。

其中，該第一接觸洞所暴露的該絕緣層的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該絕緣層的一側(cè)壁分別具有一第一斜率，該第一接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁與該第二接觸洞所暴露出的該第二共通線段的一側(cè)壁分別具有一第二斜率，且該第二斜率小于該第一斜率。