[發(fā)明專利]蝕刻襯底的裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210137087.8
• 申請(qǐng)日: 2012-05-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103241956A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張承逸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: MM技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): C03C15/00
• 分類號(hào): C03C15/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó);鐘強(qiáng)

1.一種蝕刻襯底的裝置，所述裝置包含：

蝕刻腔；

箱子，所述箱子以至少一個(gè)襯底垂直地裝載于所述箱子中的狀態(tài)排列于所述蝕刻腔內(nèi)部；和

噴射器件，所述噴射器件排列于所述蝕刻腔內(nèi)部以在所述箱子上方噴射蝕刻劑，

所述噴射器件包含：

框架供應(yīng)管，所述框架供應(yīng)管是通過(guò)在所述蝕刻腔中使四個(gè)框架管彼此連接而形成，所述框架供應(yīng)管是矩形地且水平地安置并從外部接收所述蝕刻劑；支架，所述支架分別支撐構(gòu)成所述框架供應(yīng)管的所述四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)的框架管以穩(wěn)定地安放于所述蝕刻腔的內(nèi)壁上；和多個(gè)噴射模塊，每一個(gè)噴射模塊的兩端分別與構(gòu)成所述框架供應(yīng)管的所述四個(gè)框架管當(dāng)中的所述相對(duì)框架管連通并耦合，且所述多個(gè)噴射模塊從所述框架供應(yīng)管接收所述蝕刻劑并將所述蝕刻劑噴射到所述襯底。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述支架固定地耦合到所述蝕刻腔的所述內(nèi)壁。

3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述支架可滑動(dòng)地耦合到所述蝕刻腔的所述內(nèi)壁，使得可通過(guò)形成于所述蝕刻腔的側(cè)壁中的可拆卸門(mén)而取出所述噴射器件。

4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述支架包含在所述支架的下端中的滑件，且所述蝕刻腔的所述內(nèi)壁包含導(dǎo)軌，所述滑件可在所述導(dǎo)軌上水平地移動(dòng)。

5.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述噴射模塊耦合到除了由所述支架支撐并安放的所述相對(duì)框架管之外的所述相對(duì)框架管。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其中所述噴射模塊包含：噴嘴棒，所述噴嘴棒的兩端都耦合到緊固部分，所述緊固部分分別形成于所述相對(duì)框架管中，且所述噴嘴棒具備多個(gè)噴射孔，所述多個(gè)噴射孔是按行縱長(zhǎng)地排列并彼此隔開(kāi)；噴嘴耦合板，所述噴嘴耦合板附接于所述噴嘴棒的縱向方向上并具備多個(gè)噴嘴耦合孔，所述多個(gè)噴嘴耦合孔分別在垂直方向上與所述多個(gè)噴射孔連通；和噴嘴，所述噴嘴耦合到所述噴嘴耦合孔并將所述蝕刻劑噴射到所述襯底，所述蝕刻劑從所述噴射孔出來(lái)。

7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中耦合到所述噴嘴耦合孔的所述噴嘴的頂部經(jīng)定位成低于所述噴射孔。