[發(fā)明專利]基板檢查裝置、基板檢查方法和存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210135466.3 | 申請日: | 2012-05-03 |
| 公開(公告)號: | CN102809570A | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 久野和哉;富田浩;古閑法久;西山直;早川誠 | 申請(專利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 裝置 方法 存儲 介質(zhì) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及例如對半導(dǎo)體晶片或LCD基板(液晶顯示器用玻璃基板)等的基板進(jìn)行攝像、進(jìn)行檢查的基板檢查裝置、基板檢查方法和存儲介質(zhì)。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體器件的制造中的光蝕刻法工序中,例如依次進(jìn)行在半導(dǎo)體晶片(以下稱為晶片)上涂敷抗蝕劑形成抗蝕劑膜的抗蝕劑涂敷處理、在該抗蝕劑膜上曝光規(guī)定的圖案的曝光處理、和對已曝光的抗蝕劑膜進(jìn)行顯影的顯影處理等,在晶片上形成規(guī)定的抗蝕劑圖案。
而且,對于進(jìn)行了一系列的光蝕刻法的晶片,例如搬入在進(jìn)行上述抗蝕劑涂敷處理和顯影處理的涂敷、顯影裝置內(nèi)設(shè)置的檢查裝置,并通過設(shè)置于檢查裝置內(nèi)的照相機(jī)對其表面進(jìn)行攝像。該被攝像的晶片的圖像顯示于輸出畫面,并基于該顯示檢查是否在晶片的表面形成有規(guī)定的抗蝕劑膜,另外是否在其表面有傷、異物的附著等。
在該攝像時,晶片被設(shè)置于檢查裝置的照明部照射,但該照明部的照度因時效劣化而逐漸降低,若在照度降低了的環(huán)境下進(jìn)行攝像,則檢查的精度降低。因此,作為檢查裝置的定期維護(hù),有時將在其表面未形成有抗蝕劑膜等各種膜的調(diào)整用晶片輸送到該檢查裝置,根據(jù)對該調(diào)整用晶片進(jìn)行攝像獲得的圖像來確認(rèn)照明部的明亮度。而且,在根據(jù)上述圖像判定照明部的照度比基準(zhǔn)降低的情況下,進(jìn)行照明部的更換和/或圖像的亮度的放大率的調(diào)整。此外,以后為了與調(diào)整用晶片區(qū)別,單獨(dú)記載為晶片時,表示用于制造半導(dǎo)體的晶片。
使用涂敷、顯影裝置的輸送機(jī)構(gòu),將調(diào)整用晶片從輸送到涂敷、顯影裝置的裝載口的專用的載體輸送到檢查裝置。這樣,將專用的載體輸送到裝載口需要勞力和時間,而且在該載體和檢查裝置之間輸送調(diào)整用晶片的期間,必須使上述輸送機(jī)構(gòu)的晶片的輸送停止,所以在這樣的檢查中,不能在涂敷、顯影裝置進(jìn)行晶片的處理。所以,通過進(jìn)行這樣的維護(hù),具有吞吐量的降低變大的問題。另外,由于這樣進(jìn)行維護(hù)需要勞力和時間,因此具有若抑制進(jìn)行維護(hù)的次數(shù),則即使照明部的照度比基準(zhǔn)高也更換該照明部,或在與基準(zhǔn)相比照明部的照度比基準(zhǔn)低的狀態(tài)下也繼續(xù)檢查的問題。
在專利文獻(xiàn)1中雖然記載有對于從燈(lamp)放射的光的發(fā)光強(qiáng)度、光譜分布等,與目標(biāo)值進(jìn)行比較,基于其結(jié)果報知是否需要進(jìn)行該燈的更換的照明裝置,但關(guān)于對上述的晶片進(jìn)行攝像時的問題并未記載,不能解決該問題。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2001-201431(段落0041等)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
本發(fā)明是在這樣的情況下完成的,其目的是提供不向裝置輸送調(diào)整用基板、能夠防止產(chǎn)生由照明部的照度的降低引起的基板的檢查的不順利的技術(shù)。
用于解決問題的方法
本發(fā)明的基板檢查裝置,從照明部對載置于設(shè)置在機(jī)箱內(nèi)的載置臺的基板照射光,通過包括攝像元件的攝像部進(jìn)行攝像,基于其攝像結(jié)果進(jìn)行基板的檢查,所述基板檢查裝置的特征在于,包括:
模式選擇部,用于在檢查模式和維護(hù)模式之間選擇模式,所述檢查模式以載置于上述載置臺的基板為被攝體進(jìn)行攝像來進(jìn)行檢查,所述維護(hù)模式用于確認(rèn)照明部的照度;
導(dǎo)光部件,設(shè)置于上述機(jī)箱內(nèi),用于將上述照明部的光導(dǎo)向上述攝像元件;
判定部,對在維護(hù)模式執(zhí)行時經(jīng)由上述導(dǎo)光部件通過攝像元件取得的照明部的光的亮度是否在預(yù)先設(shè)定的容許范圍內(nèi)進(jìn)行判定;和
報知部,用于當(dāng)由上述判定部判定為上述亮度在上述容許范圍外時,報知需要進(jìn)行照明部的更換。
本發(fā)明的其它的基板檢查裝置,從照明部對載置于設(shè)置在機(jī)箱內(nèi)的載置臺的基板照射光,通過包括攝像元件的攝像部進(jìn)行攝像,基于其攝像結(jié)果進(jìn)行基板的檢查,所述基板檢查裝置的特征在于,包括:
模式選擇部,用于在檢查模式和維護(hù)模式之間選擇模式,所述檢查模式以載置于上述載置臺的基板為被攝體進(jìn)行攝像來進(jìn)行檢查,所述維護(hù)模式用于確認(rèn)照明部的照度;
導(dǎo)光部件,設(shè)置于上述機(jī)箱內(nèi),用于在上述維護(hù)模式執(zhí)行時將上述照明部的光導(dǎo)向上述攝像元件;
放大部,為了即使在上述照明部的照度降低時也使檢查結(jié)果穩(wěn)定,對從攝像元件輸出的亮度信號進(jìn)行放大,并且其放大率可變;和
放大率調(diào)整部,在維護(hù)模式執(zhí)行時,基于經(jīng)由上述導(dǎo)光部件、攝像元件和上述放大部取得的照明部的光的亮度和預(yù)先設(shè)定的亮度,對所述放大率進(jìn)行調(diào)整。
本發(fā)明的具體的方式,例如如下所述。
(1)具有:判定部,對上述放大率是否超過預(yù)先設(shè)定的容許值進(jìn)行判定;和報知部,用于當(dāng)由上述判定部判定為放大率超過上述容許值時,報知需要進(jìn)行照明部的更換。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





