[發明專利]一種新型寬幅遮陽材料及其制作方法

無效

• 申請號: 201210127440.4
• 申請日: 2012-04-26
• 公開（公告）號: CN102673042A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 勵征
• 申請（專利權）人: 蒙特集團（香港）有限公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35
• 代理公司: 北京市惠誠律師事務所 11353
• 代理人: 王美華

技術領域

本發明涉及一種新型寬幅遮陽材料及其制作方法。

背景技術

近幾年各種材料及技術引入到窗簾及遮陽貼膜領域。如隔熱保溫材料，夏天阻隔室外熱量進入，冬天減少室內熱量流失；減光、遮光材料，能適應人對光線不同強度的需求，解決太陽光被普通遮陽材料完全遮擋時，室內光線不足的問題。隨著消費者審美觀念的轉變及環保意識的逐漸加強，這兩種新型材料受到廣大消費者的追捧。

然而前述新型材料只具有其中某一個性能，同時具備減光遮光、隔熱保溫性能的材料還未見報道。

發明內容

本發明目的是：提供一種新型寬幅遮陽材料，其同時具備減光遮光、隔熱保溫的性能。

一種新型寬幅遮陽材料，由基材膜及在基材膜上依次順序沉積的電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、摻雜VO₂膜層、電介質膜層組成。

一種新型寬幅遮陽材料，由基材膜及在基材膜上依次順序沉積的摻雜VO₂膜層、電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層組成。

一種新型寬幅遮陽材料，由基材膜及在基材膜上依次沉積的電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、金屬膜層、摻雜VO₂膜層、電介質膜層組成。

其中相鄰的金屬膜層和電介質膜可以僅沉積一次，也可以重復沉積，即在沉積完一層金屬膜層、電介質膜后重復沉積，如在基材膜上依次順序沉積的電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、摻雜VO₂膜層、電介質膜層；在基材膜上依次順序沉積摻雜VO₂膜層、電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層；在基材膜上依次沉積電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、金屬膜層、摻雜VO₂膜層、電介質膜層。上述依次順序沉積的若干個膜層稱為1個膜層組，基材膜上可沉積一個或一個以上膜層組。

基材膜是厚度8um-100um，寬度1000mm-2500mm的柔性連續卷材，材質選自各種塑料薄膜，如PET、EVA、PVC、PP、PE薄膜等；或者非金屬材料編織物，如玻璃纖維布，玄武巖纖維布，各種合成纖維布等。

金屬膜材質選自銀、銅、金、鋁、鎳、鋅、鉬、鈦、鉻、錫、鉑、鎢、鈀、釩、鉭、銦中的一種或任意幾種。金屬材料優選銀、銅或鎳鉻合金，其最適合用于制作高性價比的紅外光線吸收膜。每層膜的厚度5nm-250nm，最佳沉積厚度10nm-80nm。金屬層用于吸收紅外光線，膜層厚度越厚，紅外線吸收率越高。5nm-250nm不同厚度的金屬膜能使遮光材料的透光率從12％---75％，反光率從5％---65％，太陽能總隔斷率從40％---85％之間調節。

電介質膜層材質選自金屬氧化物、金屬硫化物、金屬硼化物、金屬碳氮化物、金屬氮化物的一種或任意幾種。優選金屬氧化物如：氧化鋅，氧化鋁，氧化鈦，氧化銦，氧化鋯，氧化鉭，金屬氮化物如：氮化硅，氮化鋁，氮化鈦，電介質膜層最佳沉積厚度2nm-200nm。電介質層的作用是反射一部分光線，并且能保護金屬膜，防止其流失。

摻雜VO₂膜層是選用摻雜金屬與氧化釩材料共同沉積獲得的特定溫度下的熱致變色光學膜，前述固定的金屬膜產生特定的紅外吸收率，摻雜VO₂膜在特定的紅外吸收率下再隨使用溫度來改變紅外吸收率。摻雜金屬選自金、銀、鎢、鉬、銅、鋁或鈦，每層膜的沉積厚度在2nm-50nm。

本發明提供了一種新型寬幅遮陽材料的制備方法：以厚度8um-100um，寬度1000mm-2500mm的柔性連續卷材為基材，經導向輥平整連續地進入磁控濺射裝置反應室內，反應室抽真空，真空度不低于2×10^-3Pa，采用真空鍍膜技術在基材上依次沉積各膜層。

基材沉積表面朝下放置，防止基材表面中的雜質或沉積時的雜質進入沉積膜中，并且有利于物理清洗，可有效防止顆粒狀的雜質對襯底表面的玷污。

所謂真空鍍膜就是置待鍍膜材料和被鍍基材于真空室內，采用一定方法加熱待鍍膜材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等)，以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。