[發明專利]一種新型寬幅遮陽材料及其制作方法

無效

• 申請號: 201210127440.4
• 申請日: 2012-04-26
• 公開（公告）號: CN102673042A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 勵征
• 申請（專利權）人: 蒙特集團（香港）有限公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35
• 代理公司: 北京市惠誠律師事務所 11353
• 代理人: 王美華

1.一種新型寬幅遮陽材料，由基材膜及在基材膜上依次順序沉積的電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、摻雜VO₂膜層、電介質膜層組成。

2.一種新型寬幅遮陽材料，由基材膜及在基材膜上依次順序沉積的摻雜VO₂膜層、電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層組成。

3.一種新型寬幅遮陽材料，由基材膜及在基材膜上依次沉積的電介質膜層、金屬膜層、電介質膜層、金屬膜層、摻雜VO₂膜層、電介質膜層組成。

4.權利要求1至3任一項所述的寬幅遮陽材料，其特征是基材膜是厚度8um-100um，寬度1000mm-2500mm的柔性連續卷材，材質選自各種塑料薄膜或者非金屬材料編織物。

5.權利要求1至4任一項所述的寬幅遮陽材料，其特征是金屬膜材質選自銀、銅、金、鋁、鎳、鋅、鉬、鈦、鉻、錫、鉑、鎢、鈀、釩、鉭、銦中的一種或任意幾種，每層膜的厚度5nm-250nm。

6.權利要求1至5任一項所述的寬幅遮陽材料，其特征是電介質膜層材質選自金屬氧化物、金屬硫化物、金屬硼化物、金屬碳氮化物、金屬氮化物的一種或任意幾種，電介質膜層沉積厚度2nm-200nm。

7.權利要求1至6任一項所述的寬幅遮陽材料，其特征是摻雜金屬選自金、銀、鎢、鉬、銅、鋁或鈦，摻雜VO₂膜的沉積厚度在2nm-50nm。

8.一種新型寬幅遮陽材料的制備方法：以厚度8um-100um，寬度1000mm-2500mm的柔性連續卷材為基材，經導向輥平整連續地進入磁控濺射裝置反應室內，反應室抽真空，真空度不低于2×10^-3Pa，采用真空鍍膜技術在基材上依次沉積各膜層。

9.權利要求8所述的寬幅遮陽的制備方法，其特征是材料基材沉積表面朝下放置。