[發(fā)明專利]微電極陣列傳感器及其制備方法與溶出伏安檢測方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210123041.0 | 申請日: | 2012-04-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102636538A | 公開(公告)日: | 2012-08-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉建山;黃奕瑩 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州盈思傳感科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N27/30 | 分類號(hào): | G01N27/30;G01N27/48;B81C1/00 |
| 代理公司: | 廣州市華學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245 | 代理人: | 歐陽凱;靳榮舉 |
| 地址: | 510530 廣東省廣州市蘿*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微電極 陣列 傳感器 及其 制備 方法 伏安 檢測 | ||
1.微電極陣列傳感器,其特征在于:包括活性點(diǎn)、導(dǎo)電纖維和絕緣體,所述活性點(diǎn)位于絕緣體頂面,導(dǎo)電纖維穿過絕緣體連接活性點(diǎn);活性點(diǎn)的直徑在0.1微米到25微米之間,導(dǎo)電纖維包括金屬導(dǎo)線和包裹在金屬導(dǎo)線外面的絕緣材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電極陣列傳感器,其特征在于:所述絕緣體為圓柱形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微電極陣列傳感器,其特征在于:所述活性點(diǎn)為多個(gè),一個(gè)位于頂面圓心,其余以圓心為中心圓周排列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電極陣列傳感器,其特征在于:所述活性點(diǎn)的材料為:碳纖維、玻碳、碳納米管、石墨烯、富勒烯、金剛石、金、鉑、鉍、硼中的一種或者任意組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電極陣列傳感器的制備方法,其特征在于:制備方法為光刻法、絲網(wǎng)印刷法、電沉積法或者組裝法。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微電極陣列傳感器的制備方法,其特征在于:所述光刻法包括以下步驟:
光刻步驟:
(1)、在基片上涂敷增粘劑六甲基二硅亞胺,再涂敷具有感光特性的高分子材料做成的光刻膠;
(2)、把基片進(jìn)行預(yù)烘,使光刻膠內(nèi)的溶劑揮發(fā);
(3)、在玻璃基板上真空蒸發(fā)金屬鉻薄膜,然后通過激光燒化剝落方法除去不需要的鉻,形成需要的掩模圖形,制成掩模版;
(4)、進(jìn)行對版,將預(yù)先已做好掩模圖形的掩模版重疊在基片上,接著進(jìn)行曝光,掩模版上有鉻的部分擋住光線,而無鉻的部分可以透過光線,光線照到被選擇的光刻膠部分就引起化學(xué)變化,引起化學(xué)變化的光刻膠為正性光刻膠,沒有引起化學(xué)變化的光刻膠為負(fù)性光刻膠,這樣就將掩模圖形轉(zhuǎn)寫到光刻膠上;
(5)、進(jìn)行顯影,正性光刻膠被光照到的部分在顯影液中被溶解去除,負(fù)性光刻膠不會(huì)去除;
(6)、把基片進(jìn)行后烘,使顯影后殘留的溶劑揮發(fā);
剝離步驟:
(7)、在基片與負(fù)性光刻膠上沉積一層金屬薄膜;
(8)、在腐蝕槽內(nèi)去除負(fù)性光刻膠,沉積在負(fù)性光刻膠上的金屬薄膜因負(fù)性光刻膠的溶解而被剝離,直接沉積在基片上的金屬薄膜則被保留,直接沉積在基片上的金屬薄膜直徑在0.1微米到25微米之間;
布線及封裝步驟:
(9)、把基片與金屬薄膜分離,在金屬薄膜的背面涂上導(dǎo)電銀膠;
(10)、用絕緣材料包裹金屬導(dǎo)線形成導(dǎo)電纖維;
(11)、導(dǎo)電纖維的一端粘在涂有導(dǎo)電銀膠的金屬薄膜上;
(12)、將導(dǎo)電纖維穿過帶有小洞的絕緣體,金屬薄膜通過導(dǎo)電銀膠粘貼在絕緣體頂面,此處的金屬薄膜就是活性點(diǎn),然后向小洞的縫隙灌注絕緣漆,制得微電極陣列傳感器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的微電極陣列傳感器的制備方法,其特征在于:所述步驟(4)中,掩模版上無鉻的部分為點(diǎn)狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微電極陣列傳感器的溶出伏安檢測方法,其特征在于:所述溶出伏安檢測方法為陽極溶出伏安法或陰極溶出伏安法。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的微電極陣列傳感器的溶出伏安檢測方法,其特征在于:所述陽極溶出伏安法包括以下步驟:
(1)、將微電極陣列傳感器放在0.1mol/L的硫酸溶液中,以0.2V/s的速度在0-1.5V范圍內(nèi)進(jìn)行循環(huán)伏安掃描,使微電極陣列傳感器活化;
(2)、再將微電極陣列傳感器放在濃度為6.0×10-5mol/L~1.0×10-4mol/L的鍍汞液中,對微電極陣列傳感器進(jìn)行電鍍汞膜;
(3)、微電極陣列傳感器初始化完成之后,以微電極陣列傳感器為工作電極,配合對電極、參比電極組成電化學(xué)三電極體系;
(4)、三電極放到待檢測重金屬的溶液中,富集電位為-2.0V~0V,富集時(shí)間為0s~400s,不需要攪拌;
(5)、以30~70mV/s的速度掃描,得到待檢測重金屬的溶出伏安曲線。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微電極陣列傳感器的溶出伏安檢測方法,其特征在于:所述待檢測重金屬為下述種類任意之一或組合:銀、銅、鉛、鎳、鈷、鉻、汞、鎘、砷、鈷、釩、銻、鉈、錳、錫;對電極為鉑絲或不銹鋼絲電極,參比電極為Ag或AgCl參比電極。
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