[發明專利]用于供應材料的設備

無效

• 申請號: 201210120337.7
• 申請日: 2012-04-13
• 公開（公告）號: CN102732841A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 鄭勝哲;趙晃新;宋基哲;安祐正
• 申請（專利權）人: 韓商SNU精密股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 駱希聰

相關申請案的交叉參考

本申請主張在2011年4月13日向韓國知識產權局申請的第10-2011-0034341號韓國專利申請案的優先權和權益，所述申請的全部內容以引用的方式并入本文中。

技術領域

本發明涉及一種用于供應材料的設備，更特定來說，涉及一種可蒸發和供應將要以薄膜形式沉積在襯底上的有機物質的用于供應材料的設備。

背景技術

有機發光裝置為下一代顯示裝置，下一代顯示裝置可在自身內發射光，與液晶顯示器(LCD)裝置的視角、對比度、響應速度、功率消耗等相比，下一代顯示裝置的視角、對比度、響應速度、功率消耗等都非常好。

有機發光裝置包括有機發光二極管，有機發光二極管以矩陣類型連接在掃描線和數據線之間并形成像素。有機發光二極管包括陽極、陰極和形成在陽極和陰極之間并具有空穴傳輸層、有機發光層和電子傳輸層的有機薄膜層。當預定電壓施加在陽極和陰極之間時，從陽極注入的空穴和從陰極注入的電子在發光層中重新組合，同時基于能差發射光。

用在用于有機薄膜層的沉積工序中的有機物質不需要高蒸汽壓力，而是有機物質在高溫下容易分解和變性為無機物質。由于這些材料特性，因此由鎢材料制成的源容器填有有機物質，且源容器被加熱以蒸發有機物質，從而將常規的有機薄膜沉積在襯底上。

有機發光二極管的常規制造已在與外界條件隔絕的真空條件下執行，且因而，當再次填充用于制造有機發光二極管的源材料時，必須不可避免地使設備暫停。另外，如果使用大容量源容器增加了填充量而延長了暫停周期，那么，源材料可能變質和變性，并且每次更換源容器時還需要維護設備。

此外，在常規設備中，蒸發量依據源材料的消耗而改變，且因此，歸因于沉積在襯底上的膜的厚度的改變，所制造的裝置并不可靠。

發明內容

因此，構想出本發明來解決前述問題，且本發明的一方面是提供用于供應材料的設備，在所述設備中，源材料和用于將熱供應給源材料以蒸發源材料的加熱器提供在一個空間內，且根據源材料的蒸發量來調節源材料和加熱器之間的距離，從而維持沉積在襯底上的有機發光二極管的恒定厚度并制造可靠的有機發光二極管。

根據本發明的示范性實施例，提供用于供應材料的設備，所述設備蒸發將要作為薄膜沉積在襯底上的源材料，且所述設備將經蒸發源材料供應到面向襯底的噴射孔，所述設備包括：源容器，將要沉積在襯底上的源材料以固態或液態容納在源容器中；蒸發室，蒸發室包括用于將源容器安裝在其中的內部空間，且來自源容器的經蒸發源材料通過蒸發室；第一加熱器，第一加熱器提供在位于蒸發室內的源容器上方，且第一加熱器將熱供應到源容器，以蒸發容納在源容器中的源材料；以及傳遞單元，傳遞單元使第一加熱器和源容器中的一者在與另一者接近或與另一者遠離的方向上往復運動。

設備可進一步包括擋板，擋板提供在位于蒸發室內的第一加熱器上方，且擋板攔截從所述蒸發室的外側傳遞到內側的熱。

設備可進一步包括：冷卻器，冷卻器安裝在蒸發室的下部中，以便鄰近于液體或固體源材料，且冷卻器冷卻容納在源容器中的源材料；以及第二加熱器，第二加熱器安裝在蒸發室的上部中并與液體或固體源材料隔開，且第二加熱器將熱供應到蒸發室，以便防止通過蒸發室的經蒸發源材料相變為液態或固態。

傳遞單元可包括：桿單元，桿單元穿透蒸發室的頂部，桿單元耦合到第一加熱器，且桿單元和第一加熱器一起在蒸發室內上下往復運動；驅動源，驅動源供應用于使桿單元往復運動的驅動力；以及控制器，控制器連接到驅動源且控制桿單元的傳遞方向和速度。

傳遞單元可包括：桿單元，桿單元穿透蒸發室的底部，桿單元耦合到源容器，且桿單元和源容器一起在蒸發室內上下往復運動；驅動源，驅動源供應用于使桿單元往復運動的驅動力；以及控制器，控制器連接到驅動源且控制桿單元的傳遞方向和速度。

根據本發明的示范性實施例，提供用于供應材料的設備，所述設備蒸發將要作為薄膜沉積在襯底上的源材料，且所述設備將經蒸發源材料供應到面向襯底的噴射孔，所述設備包括：源容器，將要沉積在襯底上的源材料以固態或液態容納在源容器的下部中，且經蒸發源材料在源容器的上部通過源容器；第一加熱器，第一加熱器安裝在位于源容器內的固體或液體源材料上方，且第一加熱器將熱供應到固體或液體源材料，以蒸發源材料；以及傳遞單元，傳遞單元使第一加熱器和源材料中的一者在與另一者接近或與另一者遠離的方向上往復運動。

設備可進一步包含擋板，擋板提供在位于源容器內的第一加熱器上方，且擋板攔截從所述源容器的外側傳遞到內側的熱。