[發(fā)明專利]用于供應(yīng)材料的設(shè)備無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210120337.7 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102732841A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭勝哲;趙晃新;宋基哲;安祐正 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 韓商SNU精密股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 駱希聰 |
| 地址: | 韓國忠*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 供應(yīng) 材料 設(shè)備 | ||
1.一種用于供應(yīng)材料的設(shè)備,所述設(shè)備蒸發(fā)將要作為薄膜沉積在襯底上的源材料,且所述設(shè)備將經(jīng)蒸發(fā)源材料供應(yīng)給面向所述襯底的噴射孔,所述設(shè)備包含:
源容器,將要沉積在襯底上的源材料以固態(tài)或液態(tài)容納在所述源容器中;
蒸發(fā)室,所述蒸發(fā)室包含用于將所述源容器安裝在其中的內(nèi)部空間,且來自所述源容器的所述經(jīng)蒸發(fā)源材料通過所述蒸發(fā)室;
第一加熱器,所述第一加熱器提供在位于所述蒸發(fā)室內(nèi)的所述源容器上方,且所述第一加熱器將熱供應(yīng)到所述源容器,以蒸發(fā)容納在所述源容器中的所述源材料;以及
傳遞單元,所述傳遞單元使所述第一加熱器和所述源容器中的一者在與另一者接近或與另一者遠(yuǎn)離的方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備進(jìn)一步包含擋板,所述擋板提供在位于所述蒸發(fā)室內(nèi)的所述第一加熱器上方,且所述擋板攔截從所述蒸發(fā)室的外側(cè)傳遞到內(nèi)側(cè)的熱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備進(jìn)一步包含:
冷卻器,所述冷卻器安裝在所述蒸發(fā)室的下部中,以便鄰近于液體或固體源材料,且所述冷卻器冷卻容納在所述源容器中的源材料;以及
第二加熱器,所述第二加熱器安裝在所述蒸發(fā)室的上部中并與所述液體或固體源材料隔開,且所述第二加熱器將熱供應(yīng)到所述蒸發(fā)室,以便防止通過所述蒸發(fā)室的所述經(jīng)蒸發(fā)源材料相變?yōu)橐簯B(tài)或固態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述傳遞單元包含:
桿單元,所述桿單元穿透所述蒸發(fā)室的頂部,所述桿單元耦合到所述第一加熱器,且所述桿單元和所述第一加熱器一起在所述蒸發(fā)室內(nèi)上下往復(fù)運(yùn)動(dòng);
驅(qū)動(dòng)源,所述驅(qū)動(dòng)源供應(yīng)用于使所述桿單元往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力;以及
控制器,所述控制器連接到所述驅(qū)動(dòng)源且控制所述桿單元的傳遞方向和速度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述傳遞單元包含:
桿單元,所述桿單元穿透所述蒸發(fā)室的底部,所述桿單元耦合到所述源容器,且所述桿單元和所述源容器一起在所述蒸發(fā)室內(nèi)上下往復(fù)運(yùn)動(dòng);
驅(qū)動(dòng)源,所述驅(qū)動(dòng)源供應(yīng)用于使所述桿單元往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力;以及
控制器,所述控制器連接到所述驅(qū)動(dòng)源且控制所述桿單元的傳遞方向和速度。
6.一種用于供應(yīng)材料的設(shè)備,所述設(shè)備蒸發(fā)將要作為薄膜沉積在襯底上的源材料,且所述設(shè)備將經(jīng)蒸發(fā)源材料供應(yīng)給面向所述襯底的噴射孔,所述設(shè)備包含:
源容器,將要沉積在襯底上的所述源材料以固態(tài)或液態(tài)容納在所述源容器的下部中,且所述經(jīng)蒸發(fā)源材料在所述源容器的上部中通過所述源容器;
第一加熱器,所述第一加熱器安裝在位于所述源容器內(nèi)的所述固體或液體源材料上方,且所述第一加熱器將熱供應(yīng)到所述固體或液體源材料,以蒸發(fā)所述源材料;以及
轉(zhuǎn)移單元,所述轉(zhuǎn)移單元使所述第一加熱器和所述源材料中的一者在與另一者接近或與另一者遠(yuǎn)離的方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備進(jìn)一步包含擋板,所述擋板提供在位于所述源容器內(nèi)的所述第一加熱器上方,且所述擋板攔截從所述源容器的外側(cè)傳遞到內(nèi)側(cè)的熱。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備進(jìn)一步包含:
冷卻器,所述冷卻器安裝在所述源容器的下部中,以便鄰近于液體或固體源材料,且所述冷卻器冷卻容納在所述源容器中的源材料;以及
第二加熱器,所述第二加熱器安裝在所述源容器的上部中并與所述液體或固體源材料隔開,且所述第二加熱器將熱供應(yīng)到所述源容器,以便防止通過所述源容器的所述經(jīng)蒸發(fā)源材料相變?yōu)橐簯B(tài)或固態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述傳遞單元包含:
桿單元,所述桿單元穿透所述源容器的頂部,所述桿單元耦合到所述第一加熱器,且所述桿單元和所述第一加熱器一起在所述源容器內(nèi)上下往復(fù)運(yùn)動(dòng);
驅(qū)動(dòng)源,所述驅(qū)動(dòng)源供應(yīng)用于使所述桿單元往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力;以及
控制器,所述控制器連接到所述驅(qū)動(dòng)源且控制所述桿單元的傳遞方向和速度。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述傳遞單元包含:
桿單元,所述桿單元穿透所述源容器的底部,所述桿單元接觸所述源材料,且所述桿單元和所述源材料一起在所述源容器內(nèi)上下往復(fù)運(yùn)動(dòng);
驅(qū)動(dòng)源,所述驅(qū)動(dòng)源供應(yīng)用于使所述桿單元往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力;以及
控制器,所述控制器連接到所述驅(qū)動(dòng)源且控制所述桿單元的傳遞方向和速度。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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