[發(fā)明專利]一種新型的GaN基發(fā)光二極管器件及其制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210114535.2 | 申請日: | 2012-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN103378241A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 郝銳;馬學進;吳質樸 | 申請(專利權)人: | 江門市奧倫德光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06;H01L33/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 529000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 gan 發(fā)光二極管 器件 及其 制作方法 | ||
技術領域:
本發(fā)明涉及發(fā)光二極管領域,特別是一種新型的GaN基發(fā)光二極管器件及其制作方法。?
背景技術
當前,在全球氣候變暖問題日趨嚴峻的背景下,節(jié)約能源、減少溫室氣體排放成為全球共同面對的重要問題。以低能耗、低污染、低排放為基礎的低碳經濟,將成為經濟發(fā)展的重要方向。在照明領域,以LED(發(fā)光二極管)為代表的半導體發(fā)光產品,具有節(jié)能、環(huán)保,以及光源壽命長、體積小等優(yōu)點,正吸引著世人的目光。?
目前氮化鎵基發(fā)光二極管的常規(guī)結構如圖1所示:包括襯底4、第一種N型半導體層1,控制發(fā)光波長的多量子阱層2,第二種P型半導體層3。多量子阱結構為InGaN/GaN的多周期循環(huán)結構,其中最后一個壘層與與前面的壘層為同樣的結構。?
對于GaN基LED來說,載流子的發(fā)光再復合主要集中在最后一個阱里。對于常規(guī)結構的LED來說,阱壘層的晶格失配和熱失配造成較強的壓應變作用,直接的后果導致電子載流子泄漏出量子阱、空穴注入量子阱困難、極化電場增強等問題,從而影響內量子效率和電流效率。?
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種新型GaN基發(fā)光二極管器件及其制備方法,既能夠提高器件的發(fā)光效率,又不影響器件的其它光電特性。?
為實現上述目的,本發(fā)明提供的技術方案是:提供一種新型的GaN基發(fā)光二極管器件結構,其中包括依次層疊的襯底、第一種半導體載流子注入層、多?量子阱結構、多量子阱結構的最后一個量子壘(LQB)及第二種半導體載流子注入層,所述多量子阱結構的最后一個量子壘(LQB)為多層或多組分復合結構,所述最后生長的量子壘為一層或多層GaN類及其合金材料的外延結構。?
如上所述的結構,其特征在于:襯底可以是藍寶石,碳化硅,或硅。?
如上所述的結構,其特征在于:其特征在于:所述最后一個量子壘層的GaN類合金材料為AlGaN、InGaN、AlInGaN中的一種和幾種。?
如上所述的結構,其特征在于:所述最后一個量子壘層的層數為0-8層。?
如上所述的結構,其特征在于:所述最后一個量子壘層的層厚為3-600A。?
如上所述的結構,其特征在于:所述最后一個量子壘層所摻雜的元素為Mg、Si、Zn、Ge中的一種或幾種。?
本發(fā)明發(fā)光二極管的制作方法的技術方案是,在制作好的N型氮化鎵半導體層后,采用MOCVD方法,包括如下步驟:?
1)生長GaN層:將生長溫度設定在700-900℃,反應器的壓力為100-500Tor,通入10-60L的高純氨氣和10-90L的高純氮氣,通入流量為10-600sccm的TEG,生長時間為20-600s;?
2)生長InGaN層:將生長溫度設定在700-900℃,反應器的壓力為100-500Tor,通入10-60L的高純氨氣和10-90L的高純氮氣,通入流量為10-600sccm的TEG,還通入流量為10-600sccm的TMIn,生長時間為20-600s;?
3)重復以上步驟(1)和(2)形成一個量子阱周期,生長3-15個周期的量子阱;?
4)完成最后一個量子阱的生長后,將生長溫度設定在700-900℃,反應器的壓力為100-500Tor,通入10-60L的高純氨氣和10-90L的高純氮氣,通入流量為10-600sccm的TEG,通入流量為0-600sccm的TMIn,通入流量為0-1000sccm?的二茂鎂,通入流量為0-300sccm的TMA,生長多層或多組分復合結構的最后一個量子壘外延層。生長完成整個多量子阱結構后繼續(xù)發(fā)光二極管其他部分。?
本發(fā)明提供的一種新型的GaN基發(fā)光二極管器件及其制備方法優(yōu)益之處在于:能夠緩釋多量子阱與P型層之間應力作用,改善空穴的有效注入,提高器件的內量子效率和電流效率。?
附圖說明:
圖1常規(guī)結構的GaN基發(fā)光二極管結構的剖面示意圖。?
圖2本發(fā)明的發(fā)光二極管的剖面示意圖。?
圖中:第一種N型半導體層1,控制發(fā)光波長的多量子阱層2,第二種P型半導體層3、包括襯底4、最后一個量子壘(LQB)5、常規(guī)GaN量子壘層10、常規(guī)InGaN量子阱層11?
具體實施方式
為了更具體地說明本發(fā)明,現給出若干實施例。但本發(fā)明所涉及的內容并不僅僅局限于這些實施例。?
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