[發(fā)明專利]光學(xué)膜的制造方法、偏振片以及圖像顯示裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210111354.4
• 申請日: 2012-04-16
• 公開（公告）號: CN102749665A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 神崎昌;古谷勉;神野亨
• 申請（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會社
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 趙曦;金世煜

1.一種光學(xué)膜的制造方法，其特征在于，包含如下工序：

涂布工序，在連續(xù)輸送的基材膜上涂布含有活性能量射線固化性樹脂的涂布液，形成涂布層；和

固化工序，在把鑄模的表面推抵到所述涂布層的表面的狀態(tài)下，從所述基材膜側(cè)對所述涂布層照射活性能量射線，

在所述涂布工序中，以所述涂布層的前頭區(qū)域中的所述涂布層的起始區(qū)所述固化工序后的膜厚不足4μm的方式涂布所述涂布液。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，

所述涂布工序中的所述涂布液的涂布通過與所述固化工序后的涂布層的膜厚相關(guān)地預(yù)先設(shè)定規(guī)定膜厚來進(jìn)行，

在所述涂布工序中，以從所述涂布層的前頭至達(dá)到所述預(yù)先設(shè)定的規(guī)定膜厚之間所述涂布層的膜厚持續(xù)增加的方式涂布所述涂布液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，

當(dāng)將距所述涂布層的起始區(qū)的結(jié)束部的沿所述基材膜的輸送方向的距離設(shè)為L、將距離L中的所述固化工序后的所述涂布層的膜厚設(shè)為H(L)、將距離L中的膜厚增加的平均斜率設(shè)為ΔH(L)并以下述式(1)表示時，在所述涂布工序中，以L＝10的ΔH(10)為0.0003以下的方式涂布所述涂布液，所述距離L和膜厚H(L)的單位為mm，

ΔH(L)＝{H(L)-H(0)}/L????(1)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的方法，其中，

所述涂布工序中的所述涂布液的涂布通過使用模涂機(jī)并控制吐出到所述基材膜上的所述涂布液的壓力來進(jìn)行。

5.一種偏振片，其特征在于，具備偏光膜和通過權(quán)利要求1～4中任一項所述的方法制造的光學(xué)膜，

其中，所述光學(xué)膜以所述基材膜側(cè)與所述偏光膜對置的方式層積在所述偏光膜上。

6.一種圖像顯示裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求5所述的偏振片和圖像顯示元件，

其中，所述偏振片以其偏光膜為所述圖像顯示元件側(cè)的方式配置在所述圖像顯示元件上。