[發(fā)明專利]掩模與工件的對(duì)齊方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210109339.6
• 申請(qǐng)日: 2012-04-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102736445A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 三鹽亮一;井上豐治
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 優(yōu)志旺電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 胡建新

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種向工件上投影掩模圖案來(lái)進(jìn)行曝光的投影曝光裝置中的掩模與工件的對(duì)齊方法，特別是涉及如下的掩模與工件的對(duì)齊方法：以在處理工序中伸縮而大小發(fā)生變化的工件為對(duì)象，在進(jìn)行上述對(duì)齊時(shí)考慮下一工序中的對(duì)齊來(lái)進(jìn)行對(duì)齊，由此在該投影曝光處理的下一工序中進(jìn)行如焊錫的絲網(wǎng)印刷、接觸式曝光、接近式曝光那樣的大小確定的掩模與工件接觸或接近來(lái)將掩模圖案轉(zhuǎn)印到工件上的作業(yè)的情況下，也不會(huì)產(chǎn)生大的偏移而能夠進(jìn)行上述大小確定的掩模與工件的對(duì)齊。

背景技術(shù)

作為進(jìn)行投影曝光并在下一工序中使掩模與工件貼緊來(lái)將掩模圖案轉(zhuǎn)印到工件上的例子，在此以絲網(wǎng)印刷為例進(jìn)行說(shuō)明。

在印刷基板等的制造中，通過(guò)投影曝光裝置進(jìn)行將掩模圖案轉(zhuǎn)印到工件上的處理來(lái)在工件上形成布線焊盤的圖案，之后進(jìn)行通過(guò)絲網(wǎng)印刷在所形成的布線焊盤上印刷焊錫的作業(yè)。

在圖9中示出上述布線焊盤和印刷(涂布)有焊錫的布線焊盤的概念圖。

如該圖(a)所示，通過(guò)投影曝光處理等在基板(工件)上形成由銅等導(dǎo)體構(gòu)成的布線圖案Pp和布線焊盤Pd，如該圖(b)所示，通過(guò)絲網(wǎng)印刷在布線焊盤Pd上印刷(涂布)焊錫S。

上述絲網(wǎng)印刷是指，使掩模與形成有上述布線焊盤的工件重合，在掩模上涂布焊錫，在工件上的與設(shè)置在掩模上的開(kāi)口部分對(duì)應(yīng)的位置處涂布焊錫。此外，在上述工件上形成布線焊盤的圖案的工序中，印刷基板(工件)發(fā)生伸縮，因此在進(jìn)行投影曝光時(shí)與工件的伸縮相應(yīng)地改變要投影的掩模圖案圖像的倍率。

另一方面，在上述絲網(wǎng)印刷中，使掩模與工件貼緊后涂布焊錫，因此無(wú)法如投影曝光那樣與工件的伸縮相應(yīng)地改變要投影的掩模圖案圖像的倍率，使用考慮上述工件的伸縮來(lái)預(yù)先設(shè)定大小的掩模來(lái)進(jìn)行上述絲網(wǎng)印刷。

如上所述，在印刷基板等工件上形成布線焊盤的圖案并在所形成的布線焊盤上搭載(印刷)焊錫的工序大致如下。

(i)通過(guò)投影曝光裝置在形成有布線圖案的工件上形成布線焊盤的圖案。

(ii)通過(guò)絲網(wǎng)印刷裝置在形成于工件的布線焊盤上印刷焊錫。

關(guān)于上述處理，更具體地進(jìn)行說(shuō)明。

(i)通過(guò)投影曝光在工件上形成布線焊盤的圖案

首先說(shuō)明上述(i)的工序。此外，在該工序之前，在工件上已經(jīng)形成有布線圖案。

通過(guò)投影曝光裝置使形成有布線焊盤的圖案的掩模與涂布有抗蝕劑的工件(已經(jīng)形成有布線圖案)以規(guī)定的位置關(guān)系進(jìn)行對(duì)齊(對(duì)準(zhǔn))，之后，經(jīng)由該掩模向工件照射曝光光。由此，在工件的規(guī)定的位置處，布線焊盤的圖案被轉(zhuǎn)印(曝光)到工件。

在上述曝光處理中使用的具備投影透鏡的曝光裝置的一例記載于專利文獻(xiàn)1(日本特開(kāi)平9-82615)。使用圖10來(lái)說(shuō)明通過(guò)在該公報(bào)的圖1等中示出的曝光裝置進(jìn)行上述對(duì)齊的情況下的動(dòng)作。此外，在圖10中，由于圖變復(fù)雜，因此省略了形成在工件上的布線圖案。

如圖10(a)所示，在掩模M上形成有形成于工件W的布線焊盤的圖案P。工件W是印刷基板等樹脂基板。

投影透鏡(參照專利文獻(xiàn)1的圖1等)是將形成于掩模M的圖案P投影到工件W上的透鏡，投影透鏡具備變焦機(jī)構(gòu)，能夠與工件的伸縮相應(yīng)地改變要投影的圖案圖像的倍率。

在曝光處理中，為了在工件W的規(guī)定的位置處形成布線焊盤Pd，在進(jìn)行曝光之前進(jìn)行掩模M與工件W的對(duì)齊。為此，如圖10(a)所示，在掩模M上形成有掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(以下稱為掩模標(biāo)記MAM)，在工件上形成有工件對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(以下稱為工件標(biāo)記WAM)。

掩模與工件的對(duì)齊是關(guān)于平面內(nèi)的兩個(gè)方向(X方向和Y方向)以及旋轉(zhuǎn)方向(θ方向)進(jìn)行的，因此掩模標(biāo)記MAM與工件標(biāo)記WAM分別形成兩處以上。在圖10中，掩模標(biāo)記MAM與工件標(biāo)記WAM分別形成有4個(gè)。

掩模標(biāo)記MAM與工件標(biāo)記WAM的檢測(cè)是通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡(參照專利文獻(xiàn)1的圖1等)進(jìn)行的。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡是與要形成的掩模標(biāo)記和工件標(biāo)記的數(shù)量相應(yīng)地設(shè)置的。

掩模M與工件W的對(duì)齊的步驟如下。

(a)通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡檢測(cè)由投影透鏡投影的掩模標(biāo)記MAM。另外，通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡檢測(cè)形成于工件W的工件標(biāo)記WAM。

(b)在裝置的控制部中對(duì)由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡檢測(cè)出的掩模標(biāo)記MAM與工件標(biāo)記WAM進(jìn)行圖像處理，求出各自的位置坐標(biāo)。

(c)使掩模M或工件W沿XYθ方向移動(dòng)，使得工件標(biāo)記WAM與掩模標(biāo)記MAM的位置的偏移量的總和最小，優(yōu)選一致。另外，在工件W發(fā)生伸縮變形而大小發(fā)生了變化的情況下，通過(guò)投影透鏡的變焦機(jī)構(gòu)改變要投影到工件W上的掩模圖案圖像的倍率。