[發(fā)明專利]掩模與工件的對齊方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210109339.6 | 申請日： | 2012-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN102736445A | 公開（公告）日： | 2012-10-17 |
| 發(fā)明（設計）人： | 三鹽亮一;井上豐治 | 申請（專利權）人： | 優(yōu)志旺電機株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 工件 對齊 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種掩模與工件的對齊方法，將第一掩模的圖案放大投影或縮小投影到大小與該掩模不同的工件上，對齊上述掩模上所形成的對準標記的投影圖像與工件上所形成的對準標記圖像來在工件上曝光上述掩模圖案，上述掩模與工件的對齊方法的特征在于，
預先存儲在下一工序中與上述工件重疊使用的預先確定的大小的第二掩模的對準標記的位置，
在進行第一掩模與工件的對齊時，調(diào)整將上述第一掩模的圖案放大投影或縮小投影到上述工件上的倍率，以使第一偏移量與第二偏移量的總和最小的方式對齊上述第一掩模與上述工件，其中，上述第一偏移量為上述第一掩模上所形成的對準標記圖像在工件上的投影位置與工件上所形成的對準標記之間的偏移量，上述第二偏移量為第一掩模上所形成的對準標記在工件上的投影位置與上述存儲的第二掩模上所形成的對準標記的位置之間的偏移量。
2.根據(jù)權利要求1所述的掩模與工件的對齊方法，其特征在于，
上述下一工序中的作業(yè)是在上述工件上重疊上述第二掩模并向該掩模上所形成的開口注入焊錫膏而在工件上搭載焊錫的焊錫印刷作業(yè)、或?qū)⑸鲜龅诙谀Ｉ纤纬傻膱D案轉(zhuǎn)印到工件上的接觸式曝光或接近式曝光。
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