[發明專利]一種低濃度雜散煙氣S02回收處理方法無效
| 申請號: | 201210107747.8 | 申請日: | 2012-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN102641647A | 公開(公告)日: | 2012-08-22 |
| 發明(設計)人: | 劉玉強;劉世和;曹偉;劉愛春;范國鋒 | 申請(專利權)人: | 金川集團有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/14 | 分類號: | B01D53/14 |
| 代理公司: | 甘肅省知識產權事務中心 62100 | 代理人: | 馬英 |
| 地址: | 737103*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 濃度 煙氣 s0 sub 回收 處理 方法 | ||
1.??一種低濃度雜散煙氣SO2回收處理方法,其特征在于:該方法的具體步驟為:
???(1)所述低濃度煙氣冷卻后進入吸收塔底部,與從頂部噴淋而下的貧液逆流接觸,并對尾氣進行檢測后放空;
???(2)所述(1)中的吸收液進入富液槽,富液與水蒸氣在解析塔逆流接觸,經過冷凝器的水蒸氣被冷凝,分離出體積分數為90%以上的S02氣體;
????(3)吸收液脫出大部分S02后成為貧液,進入吸收塔循環利用.即吸收液在吸收塔—富液槽—解析塔—貧液槽—吸收塔之間循環;
????(4)將所述貧液槽和富液槽合二為一,貧液反復吸收,直至達到解析體積分數,而后停止吸收,啟動解析塔,解析過程持續到吸收液中S02體積分數降至設定體積分數,循環往復。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:所述吸收液為檸檬酸鈉吸收液,其質量濃度為0.5~1.25?mol/L、pH為4.0~5.0;且吸收液的液氣比為1:500—1:300。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于:當所述低濃度煙氣S02體積分數降低時,可相應增加吸收液的液氣比。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于金川集團有限公司,未經金川集團有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210107747.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 一種Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>復相熱障涂層材料
- 無鉛[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>納米管及其制備方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一種Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 復合膜及其制備方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 熒光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一種(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制備方法
- 熒光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復合材料的制備方法





