[發(fā)明專利]壓縮機(jī)、具有該壓縮機(jī)的空調(diào)系統(tǒng)以及熱泵熱水器系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210104581.4
• 申請(qǐng)日: 2012-04-10
• 公開（公告）號(hào): CN103362807A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏會(huì)軍;李萬濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 珠海格力節(jié)能環(huán)保制冷技術(shù)研究中心有限公司
• 主分類號(hào): F04C23/00
• 分類號(hào): F04C23/00;F04C29/00
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;余剛

1.一種壓縮機(jī)，包括：

低壓壓縮組件，具有低壓腔，所述低壓壓縮組件吸入并壓縮氣體形成第一有壓氣體；

中壓腔；

低壓腔排氣流道，將所述第一有壓氣體從所述低壓壓縮組件排入所述中壓腔內(nèi)；

增焓組件，向所述中壓腔內(nèi)輸送第二有壓氣體，所述第二有壓氣體與所述第一有壓氣體在所述中壓腔內(nèi)混合形成混合有壓氣體；

高壓壓縮組件，包括高壓腔，所述高壓壓縮組件吸入并壓縮所述混合有壓氣體形成第三有壓氣體；

中壓氣體流道，將所述混合有壓氣體從所述中壓腔輸送至所述高壓壓縮組件；

高壓腔排氣流道，將所述第三有壓氣體從所述高壓壓縮組件排出；

其特征在于，所述中壓氣體流道包括低壓腔排氣流道側(cè)流道段和高壓腔吸氣流道側(cè)流道段，其中，所述低壓腔排氣流道側(cè)流道段的最小橫截面積與所述高壓腔吸氣流道側(cè)流道段的最小橫截面積比在1.4至4之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述中壓氣體流道還包括中間流道段，所述中間流道段位于所述低壓腔排氣流道側(cè)流道段和所述高壓腔吸氣流道側(cè)流道段之間，其中，所述低壓腔排氣流道側(cè)流道段的最小橫截面積與所述中間流道段的最小橫截面積比H₂在1.2至2之間，且所述中間流道段的最小橫截面積與所述高壓腔吸氣流道側(cè)流道段的最小橫截面積比H₃在1.2至2之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述低壓腔排氣流道面積與所述高壓腔排氣流道面積比值為1.2。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述中壓氣體流道的最小橫截面積H_中與所述低壓腔排氣流道的最小橫截面積H_低的比值H₁大于1.2。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述高壓腔的容積V_高與所述低壓腔的容積V_低的比值R₁在0.8至0.9之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓縮機(jī)，其特征在于，

所述壓縮機(jī)包括曲軸(9)，所述曲軸(9)具有第一偏心部和第二偏心部；

所述低壓壓縮組件包括低壓缸(2)和在所述低壓缸(2)內(nèi)的設(shè)置于所述第一偏心部上的低壓滾子(10)，所述低壓缸(2)和所述低壓滾子(10)之間形成所述低壓腔；

所述高壓壓縮組件包括高壓缸(12)和在所述高壓缸(12)內(nèi)的設(shè)置于所述第二偏心部上的高壓滾子(13)，所述高壓缸(12)和所述高壓滾子(13)之間形成所述高壓腔。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī)，其特征在于，

所述第一偏心部與所述第二偏心部的偏心量相同；

所述高壓缸(12)的高度小于所述低壓缸(2)的高度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī)，其特征在于，

所述第一偏心部的偏心量小于所述第二偏心部的偏心量；

所述高壓缸(12)的高度和所述低壓缸(2)的高度相同。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓縮機(jī)，其特征在于，

所述低壓缸(2)的氣缸高度與氣缸內(nèi)徑的比值范圍在0.4至0.55之間；

所述高壓缸(12)的氣缸高度與氣缸內(nèi)徑比值范圍在0.4至0.55內(nèi)之間；

所述第一偏心部的偏心量與所述低壓缸(2)的氣缸內(nèi)徑的比值范圍在0.1～0.2內(nèi)；

所述第二偏心部的偏心量與所述高壓缸(12)的氣缸內(nèi)徑的比值范圍在0.1～0.2內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述中壓腔的容積V_中與所述低壓腔的容積V_低的比值R₂大于1。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述壓縮機(jī)還包括：

下法蘭(3)，設(shè)置于所述低壓壓縮組件下方，所述下法蘭(3)的下側(cè)包括下法蘭凹腔；

下蓋板(4)，設(shè)置于所述下法蘭(3)的下方且蓋設(shè)在所述下法蘭凹腔上，與所述下法蘭(3)共同形成所述中壓腔。