[發明專利]半導體元件及其制造方法無效
| 申請號: | 201210104370.0 | 申請日: | 2012-04-11 |
| 公開(公告)號: | CN102623403A | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發明(設計)人: | 許哲銘 | 申請(專利權)人: | 日月光半導體制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/78 | 分類號: | H01L21/78;H01L21/683 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陸勍 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一種半導體元件的制造方法,包括以下步驟:
(a)提供一半導體晶圓及一第一載體,該半導體晶圓包括數個條切割道及數個晶粒,所述切割道定義出所述晶粒;
(b)利用一黏膠將該半導體晶圓黏附至該第一載體,其中該黏膠包括數個條黏膠線段以定義出數個容置空間,所述黏膠線段對應所述切割道,且所述容置空間對應所述晶粒;
(c)附著數個上半導體元件至該半導體晶圓上,其中所述上半導體元件電性連接至所述晶粒;
(d)附著一第二載體于所述上半導體元件;
(e)沿著所述切割道切割該半導體晶圓及該第一載體,以分別形成數個晶粒及數個第一載體單體;及
(f)移除所述第一載體單體及該第二載體。
2.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(a)中,該半導體晶圓更包括一半導體基板、一布線層、數個導通柱及數個導電元件,該半導體基板具有一第一表面及一第二表面,該布線層位于該半導體基板的第一表面,所述導通柱位于該半導體基板內,且電性連接至該布線層,所述導電元件鄰接于該布線層。
3.如權利要求2的制造方法,其中該步驟(b)中,所述導電元件位于所述容置空間中。
4.如權利要求2的制造方法,其中該步驟(b)中,所述黏膠線段的高度至少為所述導電元件的高度,且所述黏膠線段的寬度為所述切割道的寬度±5μm。
5.如權利要求2的制造方法,其中該步驟(b)之后更包括:
(b1)從該半導體基板的第二表面薄化該半導體基板,以顯露出所述導通柱;
(b2)形成一鈍化層位于該半導體基板的第二表面,以覆蓋所述導通柱;
(b3)移除部分該鈍化層,使得所述導通柱凸出于該鈍化層;及
(b4)形成數個保護蓋以覆蓋所述導通柱的凸出部分;
其中,該步驟(c)中,所述上半導體元件電性連接至所述導通柱。
6.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(a)的該第一載體為透明材質,且該步驟(d)的該第二載體為一膠帶。
7.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(b)形成一黏膠于該半導體晶圓上或該第一載體上,且利用該黏膠將該半導體晶圓黏附至該第一載體。
8.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(b)之后更包括一固化該黏膠的步驟。
9.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(c)之后更包括:
(c1)沿著所述切割道切割該半導體晶圓,以形成數個溝槽,其中該半導體晶圓未被切斷;及
(c2)形成一第一封膠材料于該半導體晶圓上,其中該第一封膠材料位于所述上半導體元件間的間隙及所述溝槽內。
10.如權利要求9的制造方法,其中所述溝槽的寬度大于所述切割道的寬度,且該步驟(e)中,所述切割道經過所述溝槽而在每一晶粒的側邊上形成側邊缺口。
11.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(c)之后更包括一形成一第一封膠材料于該半導體晶圓上的步驟,其中該第一封膠材料位于所述上半導體元件間的間隙。
12.如權利要求11的制造方法,更包括一切割該第一封膠材料及該半導體晶圓的步驟。
13.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(e)中,該黏膠完全被移除。
14.如權利要求1的制造方法,其中該步驟(e)中,部分該黏膠殘留在所述晶粒及所述第一載體單體之間,且該步驟(f)將所述晶粒及所述第一載體單體浸泡一溶劑,以移除所述第一載體單體。
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
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