[發明專利]蒸汽收集

有效

• 申請號: 201210102890.8
• 申請日: 2012-03-30
• 公開（公告）號: CN102732840A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 郭倩;M·斯穆拉;M·J·施蒂納曼;H·R·薩馬妮
• 申請（專利權）人: 希捷科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 馬洪

技術領域

本發明總地涉及蒸汽收集，并具體地涉及蒸汽的冷凝和收集。

背景技術

呈盤狀的薄膜磁性和磁光(MO)介質通常用例如全氟聚醚的聚合物潤滑劑的薄膜來潤滑，以如在接觸起停(“CSS”)和加載/卸載(“L/UL”)模式下起作用的硬盤系統中那樣在與以低浮動高度運作的數據/信息記錄和讀出頭/轉換器一起使用時減少對盤的磨損。傳統地，潤滑劑的薄膜在制造過程中通過將具有形成于其上的一堆薄膜層(包括至少一層記錄層)的盤浸入含有少量(例如小于含氟聚合物的約1％(重量))潤滑劑的池中而敷加到盤表面上，這種潤滑劑溶解于通常為全氟化碳、氟代烴或氫氟醚的合適的溶劑中。然而，這種浸入過程所固有的缺點是消耗大量的溶劑，從而導致增加制造成本以及涉及到與在工作場所內存在有毒的或者潛在有害的溶劑蒸汽有關的環境危害。

鑒于上述缺點，薄膜潤滑劑的蒸汽沉積是浸漬潤滑的一種有吸引力的替代方式。具體來說，潤滑劑薄膜的蒸汽沉積是一種無溶劑過程。此外，當使用合適的聚合物潤滑劑以及具有沉積表面的磁性和/或MO盤基材時，蒸汽沉積技術能提供高達約100％結合的潤滑劑分子，該沉積表面由在潤滑劑沉積于其上之前不接觸空氣的新沉積的碳基保護外涂層構成。

發明內容

在本發明的一方面，用于在物理蒸汽沉積過程中收集冷凝蒸汽的設備包括構造成與真空室內的一個或多個蒸汽源相鄰放置的封殼。該封殼包括局部包封構造成容納物體的空間體積的封殼內表面，其中封殼被保持在比一個或多個蒸汽源低的溫度下。封殼的內表面連接到一個或多個排水溝。

附圖說明

在附圖中以示例而非限制方式來說明本發明的實施例，在附圖中相同的附圖標記表示相同的元件，且其中：

圖1A和1B示出蒸汽潤滑系統構造的不同實施例。

圖2A示出根據一實施例的用于容納和冷凝潤滑劑蒸汽的設備的側視圖。

圖2B示出圖2A的設備的正視圖。

圖2C示出圖2A的設備的俯視圖。

具體實施方式

參見圖1A，在用于盤驅動介質潤滑劑的物理蒸汽沉積過程中，沉積系統120包括加熱蒸汽源110內的液態潤滑劑的熱源101，熱源和蒸汽源都容納于真空室108內以產生潤滑劑蒸汽。經加熱的潤滑劑可具有比環境溫度下或低于環境溫度下的潤滑劑更高的蒸汽壓力。潤滑劑蒸汽從蒸汽源110經由加熱的擴散板112內的一列孔流到真空室108內，在該真空室內未加熱的物體可涂敷以潤滑劑。蒸汽在真空條件下越過間隙并在未加熱的物體表面上冷凝，該物體表面例如可以是盤。在一個實施例中，盤可從一側通過單個經加熱的蒸汽源110而暴露于流出的蒸汽。在另一實施例中，盤可使用兩個經加熱的蒸汽源從兩側暴露。設置擴散板112以在盤的表面上產生空間上均勻的薄膜。盡管孔列和蒸汽源110與盤之間的間隙設計成使蒸汽的瞄準沉積最大化，但蒸汽穿過擴散板12內的孔的流出本性導致大量潤滑劑不沉積于盤表面上。這種未被利用的潤滑劑可通常冷凝到真空室108的壁上或者可通過連接到真空室108的泵送系統來去除。在任一種情況下，潤滑劑均沒有在盤上被利用，并被認為損失掉了。除了由于未利用的潤滑劑而造成的附加成本，在真空室108內冷凝的潤滑劑或系統泵可具有其它諸如過早泵失效的不利作用。

參見圖1B，在用于盤驅動介質潤滑劑的物理蒸汽沉積過程中，沉積系統120’可包括沉積系統120的各元件中的一些或全部，但還包括封殼200。下面詳細描述該封殼200。

圖2A是用于容納和收集潤滑劑蒸汽的設備200的前視圖，而這些潤滑劑蒸汽不然就將沉積到容納設備200的真空室108的壁上。在實施例中，設備200構造成與一個或多個蒸汽源110相對放置，蒸汽源110基本上面對物體的相對兩側，該物體可以例如是諸如磁性存儲盤或磁光盤之類的盤。在實施例中，兩個蒸汽源110彼此面對，而盤位于兩個蒸汽源110之間。設備200包括可包封兩個蒸汽源110之間的空間的封殼230，用于容納盤。間隔件240的較小導熱率可防止或阻礙蒸汽源110的熱量加熱封殼230。為了能夠更有效地冷凝蒸汽，隔熱的間隔件240可使封殼230的任一側機械連接到對應的蒸汽源110，同時提供使封殼230與熱蒸汽源110隔熱的一種措施，并保持受限的間隙以減少會不期望地進入封殼230的蒸汽潤滑劑的量。