[發(fā)明專利]一種基于相位修正的RCS外推方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210089441.4
• 申請日: 2012-03-30
• 公開（公告）號: CN102608591A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發(fā)明（設計）人: 李南京;陳衛(wèi)軍;李瑛;劉琦;劉寧;張麟兮;郭淑霞;周揚
• 申請（專利權）人: 西北工業(yè)大學
• 主分類號: G01S7/41
• 分類號: G01S7/41;G01S7/40
• 代理公司: 西北工業(yè)大學專利中心 61204
• 代理人: 王鮮凱

技術領域

本發(fā)明涉及一種基于相位修正的RCS外推方法，運用相位修正系數(shù)對近距散射測試數(shù)據(jù)進行外推至遠場RCS的方法。屬于微波領域。

背景技術

在RCS測試中，總希望雷達波為均勻平面波照射目標。工程實際表明，只要被測目標的最遠邊緣與目標中心接收信號的相位差不大于π/8就算能夠滿足遠場條件。但是一般當測試頻率較高和目標的物理尺寸較大時，測試距離迅速增大，遠場測試除了其高昂的費用外，對測試儀器的靈敏度和雷達發(fā)射功率都提出了很高的要求。所以很有必要開發(fā)一種近距離的測試技術，通過修正的辦法來外推遠場RCS。

發(fā)明內(nèi)容

要解決的技術問題

為了避免現(xiàn)有技術的不足之處，本發(fā)明提出一種基于相位修正的RCS外推方法，實現(xiàn)近距離條件下對電大目標有效的RCS測試，節(jié)約測試成本和降低測試難度。

技術方案

一種基于相位修正的RCS外推方法，其特征在于步驟如下：

步驟1：在微波暗室中對參考平板進行近距RCS測試，得到參考平板的散射值E_{plane_s}(α)，其中α為測試方位角；

步驟2：計算參考平板的遠場理論值E_{plane_∞}(α)；其中ω分別為在測試頻率下的平板散射場的傳播矢量與角頻率；A為散射場的矢量磁位，μ為自由空間磁導率，J為平板面電流密度，取值為1；R為板上的每點到測試點的距離，k為波數(shù)；

步驟3：在微波暗室中對目標進行近距RCS測試，得到目標在該距離下的散射值E_s(α)；

步驟4：根據(jù)下式計算F^-1[E_si(α)]；F-1[Esi(α)]≈F-1[Eplane_∞(α)]F-1[Eplane_s(α)]F-1[Es(α)];]]>

步驟5：對F^-1[E_si(α)]進行傅里葉變換，得到目標的遠場散射值E_si(α)，F(xiàn)^-1[·]為逆傅里葉變換。

有益效果

本發(fā)明提出的一種基于相位修正的RCS外推方法，在近距RCS測試條件下時，目標的橫向尺寸過大不滿足遠場條件，但往往高程方向尺寸能滿足遠場條件。這樣就可以近似地認為目標區(qū)的場具有柱面波的特性。由于柱面波前在其中的一維方向(高程方向)上是平坦的，在另一維方向(橫向)上是彎曲的，因而就會造成相位誤差，可對近距測試數(shù)據(jù)運用相位修正系數(shù)進行修正，從而得到遠場RCS數(shù)據(jù)，實現(xiàn)大尺寸目標的測試。通過RCS近距離測試，對得到的數(shù)據(jù)做相位修正就可獲得遠場，這樣就能在縮減了測試距離的情況下，實現(xiàn)RCS測試，使RCS測試更加方便。

附圖說明