[發明專利]一種批量制備單分散亞微米二氧化硅粉體的方法

無效

• 申請號: 201210084492.8
• 申請日: 2012-03-27
• 公開（公告）號: CN103359745A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 王家松;李建軍;湯淑云;韓躍;余勇;雷衛武
• 申請（專利權）人: 浩華科技實業有限公司
• 主分類號: C01B33/18
• 分類號: C01B33/18;C01B33/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種批量制備單分散亞微米二氧化硅粉體的方法，該方法采用溶膠、凝膠反應制備單分散二氧化硅分散液，原料為正硅酸乙酯、氨水、乙醇、去離子水等，反應后生成二氧化硅、乙醇、水等產物，然后，通過反應釜自帶的減壓冷凝裝置，全部或部分除去二氧化硅分散液中的乙醇、氨水、水等溶劑，從而得到單分散二氧化硅粉體或高濃度二氧化硅分散液。

2.根據權利要求1所述，單分散二氧化硅制備階段體系中氨濃度為1-4mol/L，去離子水濃度為1-3mol/L，TEOS濃度為0.1-0.5mol/L。

3.根據權利要求1所述，單分散二氧化硅制備階段混合溶液中的醇可以是乙醇、甲醇、正丙醇、異丙醇，丁醇等，其中優選乙醇。

4.根據權利要求1所述，生長完成后的單分散二氧化硅微球溶液中加入的表面活性劑硅烷偶聯劑可以是KH-570、SCA-903、KH-560、DL-602、DL-171等，其中優選KH-570和SCA-903。

5.根據權利要求1所述，二氧化硅合成反應可以是一步法溶膠-凝膠反應，也可以是多步法種子生長制備。

6.根據權利要求1所述，本發明的制備方法可以制備粒徑大小在100nm到1000nm之間的單分散二氧化硅。

7.根據權利要求1所述，本發明的制備方法可以制備粒徑偏差大于5％的粒徑大小不均勻的二氧化硅粉體。

8.根據權利要求1所述，本發明的制備方法可以制備公斤級二氧化硅粉體，也可以制備任何所需濃度的二氧化硅分散液。

9.根據權利要求1所述，本發明的制備方法除了用于亞微米二氧化硅粉體的制備，也可以用于粒徑在10nm-100nm的納米級二氧化硅粉體的制備。

10.根據權利要求1所述，本發明的制備方法除了用于亞微米二氧化硅粉體的制備，也可以用于粒徑在1um-1000um的微米級二氧化硅粉體的制備。

11.根據權利要求1所述，反應釜的體積可以在0.5升至100升范圍，也可以在100升到1000升范圍。

12.根據權利要求1所述，反應釜的減壓冷凝裝置可以采用玻璃材質制作，也可以采用不銹鋼或其它材質制作。