[發明專利]一種微米級低羥基OH-水晶粉的生產工藝方法有效
| 申請號: | 201210078397.7 | 申請日: | 2012-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN103318898A | 公開(公告)日: | 2013-09-25 |
| 發明(設計)人: | 段玉偉 | 申請(專利權)人: | 東海縣圣達石英制品有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/12 | 分類號: | C01B33/12 |
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| 地址: | 222000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微米 羥基 oh sup 水晶 生產工藝 方法 | ||
技術領域
本發明涉及無機非金屬加工領域,具體涉及一種微米級低羥基OH-水晶粉的生產工藝方法。
背景技術
高純水晶粉是用于制作水晶管、水晶燈等的關鍵原料。水晶原料中羥基OH-的高低直接影響產品的純度。微米級低羥基OH-水晶粉是目前國內高端技術領域應用較廣的關鍵材料之一,也是目前水晶陶瓷和制作特種耐高溫器件的關鍵應用材料;目前國內傳統的高純水晶粉的生產工藝是經過對焙烤、輥機破碎、篩分、酸浸泡、中磁、化學浮選、高磁等工藝流程生產,因此最終得到的高純度水晶粉雜質含量較高,目數一般在80-120目之間,不能應用在水晶陶瓷和制作特種耐高溫器件上。
發明內容
本發明提供一種微米級低羥基OH-水晶粉的生產工藝方法,它具有工藝方法簡單,水晶粉純度高的優點。
為達到上述目的,本發明采用如下技術方案:
一種一種微米級低羥基OH-水晶粉的生產工藝方法,其特征在于實施步驟如下:
(1)選取高純水晶原料,依次進行酸洗、焙烤、破碎、篩分、酸浸泡、中磁、浮選除雜、高磁、烘干等加工流程;
(2)將高純水晶原料用錳鋼對輥機一級粉碎,粉碎顆粒100-300目;
(3)將300目的水晶粉用石英對輥機二級粉碎,粉碎顆粒500-800目;
(4)將500-800目的水晶粉用超聲波振動機進行25-45千赫高頻一次空化振動獲得1000-2500目;
(5)將1000-2500目的水晶粉進行硫酸和氫氟酸酸洗48小時;
(6)將經過48小時酸洗的水晶粉,用高溫窯爐焙烤;
(7)將焙烤后的1000-2500目的水晶粉,用超聲波振動機進行20-50千赫高頻二次聲波空化,使1000-2500目的水晶粉形成二次顆粒爆破,超聲波空化效應作用于水晶顆粒加速度和動能后,使水晶粉內的游離雜質釋放溢出,水晶粉純度≥99.999%,同時超聲波連續空化,可獲得3000-3500目的水晶粉,達到微米級;
(8)將3000-3500目的水晶粉,用高磁機進行磁選,最后除去金屬雜質;
(9)經過超聲波空化的3000-3500目的水晶粉,進行高溫脫羥爐高溫脫羥,使水晶粉內的雜質在高溫狀態下進一步裂化分離和釋放,獲得達到低羥基OH-,水晶粉純度≥99.99999%。
優選地,步驟(4)超聲波振動機的優選頻率為30千赫,此時振動效果最佳,獲得的水晶粉粒度在1000-2500目,頻率過大或過小都會影響水晶粉的粒度。
優選地,步驟(6)中高溫熔爐的焙烤溫度為850℃,此時水晶原料可充分分解。
優選地,步驟(7)中超聲波的連續空化時間為8小時,水晶顆粒獲得充分的加速度和動能最佳,水晶粉中的游離雜質溢出。。
優選地,步驟(8)中所述高磁機為15000高斯,將金屬雜質磁選掉。
優選地,步驟(9)中所述高溫脫羥爐中脫羥溫度為980℃,水晶粉中雜質得到進一步的釋放。
優選地,步驟(9)中所述高溫脫羥爐中脫羥時間為8小時,大大提高水晶粉的純度。
優選地,步驟(9)中中獲得低羥基OH-≤5pm。
本發明的優點:
1.工藝方法簡單,水晶粉雜質含量低,水晶粉的粒度均勻;
2.低羥基OH-≤5pm,水晶粉純度≥99.99999%。
具體實施方式
一種微米級低羥基OH-水晶粉的生產工藝方法,實施步驟如下:
1)選取高純水晶原料,依次進行酸洗、焙烤、破碎、篩分、酸浸泡、中磁、浮選除雜、高磁、烘干等加工流程;
2)將高純水晶原料用錳鋼對輥機一級粉碎,粉碎顆粒100-300目;
3)將300目的水晶粉用石英對輥機二級粉碎,粉碎顆粒500-800目;
4)將500-800目的水晶粉用超聲波振動機進行20-50千赫高頻一次空化振動獲得1000-2500目;
5)將1000-2500目的水晶粉進行硫酸和氫氟酸酸洗48小時;
6)將經過48小時酸洗的水晶粉,用高溫窯爐850℃焙烤;
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