[發明專利]蓋體開閉裝置有效
| 申請號: | 201210077097.7 | 申請日: | 2012-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN102693926A | 公開(公告)日: | 2012-09-26 |
| 發明(設計)人: | 菅原佑道 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/673;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 開閉 裝置 | ||
1.一種蓋體開閉裝置,其是FOUP的開閉裝置,該蓋體開閉裝置通過使FOUP的基板取出口的口緣部緊貼于利用開閉門進行開閉的輸送口的口緣部,并使設置在所述開閉門的與所述FOUP相對的相對面部上的蓋體拆卸機構經由FOUP的蓋體的前表面側的開口部進入蓋體內,來解除蓋體與FOUP主體的卡合并保持該蓋體,所述輸送口形成于用于劃分FOUP的輸送區域的氣氛與基板輸送區域的氣氛的隔壁上,其特征在于,該蓋體開閉裝置包括:
載置臺,其用于以所述蓋體的前表面朝向所述輸送口的方式載置FOUP;
氣體噴出口,其設置在所述相對面部上,供給用于去除附著在所述蓋體上的顆粒的吹掃氣體;
進退機構,其使載置于所述載置臺上的FOUP相對于所述相對面部進退;
控制部,其輸出控制信號,使得在從所述相對面部到所述FOUP的蓋體的距離為5mm以下且FOUP位于蓋體與相對面部分離的氣體供給有效位置的狀態下,從所述氣體噴出口向所述蓋體供給吹掃氣體,之后從FOUP拆卸蓋體。
2.根據權利要求1所述的蓋體開閉裝置,其特征在于,
所述控制部輸出控制信號,使得在FOUP以第1速度前進到所述氣體供給有效位置之后持續供給吹掃氣體的狀態下,使該FOUP在所述氣體供給有效位置停止或使該FOUP以比第1速度慢的第2速度向比所述氣體供給有效位置接近所述相對面部的位置前進。
3.根據權利要求1所述的蓋體開閉裝置,其特征在于,
所述進退機構是使所述載置臺相對于所述隔壁的輸送口進行進退的機構。
4.根據權利要求1所述的蓋體開閉裝置,其特征在于,
在所述相對面部上設有從該氣體噴出口向該氣體噴出口的外方延伸的回旋槽。
5.根據權利要求1所述的蓋體開閉裝置,其特征在于,
該蓋體開閉裝置具有用于使從所述氣體噴出口噴出的吹掃氣體離子化的第1電離器。
6.一種蓋體開閉裝置,其是FOUP的開閉裝置,該蓋體開閉裝置通過使FOUP的基板取出口的口緣部緊貼于利用開閉門進行開閉的輸送口的口緣部,并使設置在所述開閉門的與所述FOUP相對的相對面部上的蓋體拆卸機構經由FOUP的蓋體的前表面側的開口部進入蓋體內,來解除蓋體與FOUP主體的卡合并保持該蓋體,所述輸送口形成在用于劃分FOUP的輸送區域的氣氛與基板輸送區域的氣氛的隔壁上,其特征在于,該蓋體開閉裝置包括:
載置臺,其用于以所述蓋體的前表面朝向所述輸送口的方式載置FOUP;
氣體噴出口,其設置在所述相對面部上,供給用于去除附著在所述蓋體上的顆粒的吹掃氣體;
進退機構,其使載置在所述載置臺上的FOUP相對于所述相對面部進退;
第1電離器,其用于使從所述氣體噴出口噴出的吹掃氣體離子化。
7.根據權利要求1或6所述的蓋體開閉裝置,其特征在于,該蓋體開閉裝置包括:
過濾器單元,其設在所述載置臺的上方,并具有過濾器,該過濾器單元用于將通過所述過濾器而被凈化后的大氣朝向下方供給并形成下降氣流;
第2電離器,其用于使從所述過濾器單元供給的大氣離子化。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





