[發明專利]涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法

有效

• 申請號: 201210076863.8
• 申請日: 2012-03-21
• 公開（公告）號: CN102693901A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發明（設計）人: 宮崎文宏;元田公男;大塚慶崇
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;B05D1/28;G03F7/16
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

技術領域

本發明涉及一種對基板涂敷處理液的涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法。

背景技術

例如，在FPD(平板顯示器：FLAT?PANEL?DISPLAY)的制造過程中，利用所謂的光刻工序形成電路圖案。

在該光刻工序中，在玻璃基板等基板上形成規定的膜之后，涂敷作為處理液的光致抗蝕劑(以下，稱作抗蝕劑)并形成抗蝕劑膜(感光膜)。然后，與電路圖案相對應地曝光上述抗蝕劑膜，對抗蝕劑膜進行顯影處理，形成圖案。

不過，近年來，在該光刻工序中的抗蝕劑膜的形成工序中，出于提高生產率(throughput)的目的，多采用一種一邊以大致水平姿勢的狀態輸送基板一邊對基板的被處理面涂敷抗蝕劑液的結構。

作為輸送基板的結構，為了防止基板支承構件轉印到抗蝕劑涂敷面上而以大致水平姿勢的狀態使基板懸浮到規定的高度并沿基板輸送方向進行輸送的懸浮輸送正受到關注。

基于圖7說明使用了該懸浮輸送的涂敷膜形成裝置。

圖7的涂敷膜形成裝置200包括：懸浮載置臺201，其用于懸浮輸送作為基板的玻璃基板G；輸送部件(未圖示)，其用于對懸浮在懸浮載置臺201上的基板G的左右兩端進行保持并沿基板輸送方向(X軸方向)進行輸送。

在懸浮載置臺201的上表面上，分別隔開恒定的間隔地交替設有用于朝上方噴射非活性氣體的多個氣體噴射孔(未圖示)和用于進行吸氣的多個吸氣孔(未圖示)。于是，通過使從上述氣體噴射孔噴射的氣體噴射量與來自上述吸氣孔的吸氣量之間的壓力負荷恒定，使基板G從懸浮載置臺201的表面懸浮到恒定的高度。

另外，在懸浮載置臺201的上方，以自由升降移動的方式設有向懸浮輸送的基板G的表面供給抗蝕劑液的抗蝕劑噴嘴203。

在抗蝕劑噴嘴203上連接有由抗蝕劑泵等構成的抗蝕劑供給源204，在進行涂敷處理時，從抗蝕劑供給源204向抗蝕劑噴嘴203供給抗蝕劑液。另外，供給到抗蝕劑噴嘴203的抗蝕劑液從形成在噴嘴頂端的、在基板寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口203a噴出。

另外，在懸浮載置臺201的上方，在噴嘴203的附近設有用于使附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R均勻化(稱作啟動加注處理)的啟動加注處理部206。

啟動加注處理部206具有以自由旋轉方式收容于殼體207內的啟動加注輥205。噴嘴噴出口203a在靠近該啟動加注輥205的狀態下向該啟動加注輥205噴出規定量的抗蝕劑液，啟動加注輥205向規定的方向旋轉，從而進行啟動加注處理。另外，在殼體207內存儲有用于將附著在啟動加注輥205上的抗蝕劑液去除的清洗液(稀釋液)

在進行涂敷處理前利用該啟動加注處理部206進行啟動加注處理，從而能夠防止在進行涂敷處理時產生涂敷不均勻。

在該結構中，在對基板G進行涂敷處理前，啟動加注處理部206靠近噴嘴頂端，向啟動加注輥205上噴出規定量的抗蝕劑液。然后，啟動加注輥205向規定方向旋轉，從而對附著于噴出口203a的抗蝕劑液的狀態進行整理(啟動加注處理完成)。在啟動加注處理完成時，抗蝕劑供給噴嘴203進行下降移動，如圖所示，靠近在涂敷開始位置待機的基板G。

然后，基板G沿X軸方向移動，并且從噴出口203a呈帶狀供給抗蝕劑液，將抗蝕劑液涂敷到基板G上。

但是，在上述涂敷膜形成裝置200的結構中，由于在每次針對1張基板G進行涂敷處理時都需要實施啟動加注處理，因此存在各個基板G的涂敷處理的生產節拍時間變長這樣的問題。

為了解決上述問題，在專利文獻1中公開了一種在一個基板輸送路徑上配置有兩個獨立的抗蝕劑供給噴嘴的涂敷膜形成裝置。

使用圖8說明專利文獻1所公開的涂敷膜形成裝置的概略結構。圖8所示的涂敷膜形成裝置300具有用于形成基板輸送路徑的懸浮載置臺301，該懸浮載置臺301由基板輸入部301A、涂敷處理部301B和基板輸出部301C構成。

在基板輸入部301A及基板輸出部301C的上表面形成有多個氣體噴射孔(未圖示)，通過向基板下表面噴射從上述氣體噴射孔噴射的非活性氣體而使基板G懸浮。

另一方面，在涂敷處理部301B的上表面形成有多個氣體噴射孔(未圖示)和多個氣體吸引孔(未圖示)，通過從氣體吸引孔吸引從氣體噴射孔噴射的非活性氣體，在基板上形成氣流，使基板G穩定地懸浮。

另外，利用基板輸送部件(未圖示)對懸浮于懸浮載置臺301的基板G的左右兩端部進行保持，在載置臺上沿著基板輸送路徑沿X軸方向輸送基板G。