[發明專利]一種自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法無效
| 申請號： | 201210076636.5 | 申請日： | 2012-03-21 |
| 公開（公告）號： | CN102616860A | 公開（公告）日： | 2012-08-01 |
| 發明（設計）人： | 朱大章;姜誠;孫冬梅;胡龍;彭海豹 | 申請（專利權）人： | 同濟大學 |
| 主分類號： | C01G45/02 | 分類號： | C01G45/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人： | 吳林松 |
| 地址： | 200092 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 犧牲 模板 制備 納米 定型 二氧化錳 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：該方法包括以下步驟：
攪拌下將高錳酸鉀的去離子水溶液逐滴加入到辛烷基苯酚聚氧乙烯醚的去離子水溶液中，常溫反應后離心分離，倒出上清液，分別用去離子水和無水乙醇洗滌固體產物3～6次，恒溫干燥后得到納米級無定型二氧化錳。
2.根據權利要求1所述的自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：所述的高錳酸鉀的去離子水溶液的濃度為0.01～2.0mol·dm-3。
3.根據權利要求1所述的自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：所述的辛烷基苯酚聚氧乙烯醚的去離子水溶液的濃度為0.01～2.0mol·dm-3。
4.根據權利要求1所述的自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：所述的辛烷基苯酚聚氧乙烯醚的去離子水溶液與高錳酸鉀的去離子水溶液的體積比為10∶1～1∶10。
5.根據權利要求1所述的自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：所述的常溫反應時間為0.5～48h。
6.根據權利要求1所述的自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：所述的恒溫的溫度為60～100℃。
7.根據權利要求1所述的自犧牲模板制備納米級無定型二氧化錳的方法，其特征在于：所述的干燥時間為1～48h。
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