[發(fā)明專利]一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210076494.2
• 申請日: 2012-03-21
• 公開（公告）號: CN102593373A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高昕偉;何其林;李園利
• 申請（專利權(quán)）人: 四川虹視顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52
• 代理公司: 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所 51124
• 代理人: 李順德

1.一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)，包括：透明陰極層及輔助透明陰極層，輔助透明陰極層位于透明陰極層上方；其特征在于，所述透明陰極層采用Mg-Ag合金材料制成，所述輔助透明陰極層采用Ag材料制成。

2.如權(quán)利要求1所述的一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述透明陰極層的膜厚范圍為1～30nm；輔助透明陰極層的膜厚范圍為1～50nm，但透明陰極層和輔助透明陰極層的總厚度不超過51nm。

3.如權(quán)利要求2所述的一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述透明陰極層的膜厚為10nm，所述輔助透明陰極層的膜厚為10nm。

4.如權(quán)利要求1-3任意一項所述的一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述Mg-Ag合金材料中，Mg的質(zhì)量百分比范圍為30％～0.1％，Ag的質(zhì)量百分比范圍為70％～99.9％。

5.一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

a.在真空條件下，利用熱蒸鍍或者電子束蒸鍍技術(shù)，蒸鍍一定厚度的Mg-Ag合金材料作為透明陰極層；

b.在真空條件下，在透明陰極層的上方，利用熱蒸鍍或者電子束蒸鍍技術(shù)，蒸鍍一定厚度的Ag材料作為輔助透明陰極層。

6.如權(quán)利要求5所述的一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，步驟a中，蒸鍍10nm的Mg-Ag合金材料作為透明陰極層。

7.如權(quán)利要求5所述的一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，步驟b中，蒸鍍10nm的Ag材料作為輔助透明陰極層。

8.如權(quán)利要求5-7任意一項所述的一種OLED復(fù)合透明陰極結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述Mg-Ag合金材料中，Mg的質(zhì)量百分比范圍為30％～0.1％，Ag的質(zhì)量百分比范圍為70％～99.9％。