[發(fā)明專利]集成電路制造設(shè)備狀態(tài)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210074960.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-03-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103137513A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡柏灃;何家棟;巫尚霖;王若飛;牟忠一;林進(jìn)祥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京德恒律師事務(wù)所 11306 | 代理人: | 陸鑫;房嶺梅 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 集成電路 制造 設(shè)備 狀態(tài) 監(jiān)測(cè) 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種方法,包括:
限定集成電路制造工藝設(shè)備的區(qū)域;
基于所限定的區(qū)域?qū)⑺黾呻娐分圃旃に囋O(shè)備的參數(shù)分組;和
基于所分組的參數(shù)評(píng)估所述集成電路制造工藝設(shè)備的狀態(tài)。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中限定所述集成電路制造工藝設(shè)備的區(qū)域包括基于所述集成電路制造工藝設(shè)備的物理硬件配置限定所述集成電路制造工藝設(shè)備的區(qū)域。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中基于所限定的區(qū)域?qū)⑺黾呻娐分圃旃に囋O(shè)備的參數(shù)分組包括將每個(gè)參數(shù)分配至所述集成電路制造工藝設(shè)備中的相應(yīng)的關(guān)聯(lián)區(qū)域。
4.如權(quán)利要求1所述方法,進(jìn)一步包括當(dāng)集成電路制造工藝設(shè)備對(duì)多個(gè)晶圓進(jìn)行加工時(shí),收集與所分組的參數(shù)關(guān)聯(lián)的參數(shù)數(shù)據(jù)。
5.如權(quán)利要求4所述方法,其中基于所分組的參數(shù)評(píng)估所述集成電路制造工藝設(shè)備的狀態(tài)包括評(píng)估由與所分組的參數(shù)關(guān)聯(lián)的參數(shù)數(shù)據(jù)展示的圖案。
6.一種方法,包括:
通過工藝設(shè)備對(duì)多個(gè)晶圓進(jìn)行加工,其中所述工藝設(shè)備提供與對(duì)多個(gè)晶圓的每一個(gè)所進(jìn)行的加工關(guān)聯(lián)的參數(shù)數(shù)據(jù);
將所述參數(shù)數(shù)據(jù)與所述工藝設(shè)備的區(qū)域關(guān)聯(lián);以及
基于由所關(guān)聯(lián)的參數(shù)數(shù)據(jù)展示的圖案評(píng)估所述工藝設(shè)備的狀態(tài)。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其中將所述參數(shù)數(shù)據(jù)與所述工藝設(shè)備的區(qū)域關(guān)聯(lián)包括基于所述工藝設(shè)備的物理硬件配置將所述參數(shù)數(shù)據(jù)分組。
8.一種集成電路制造系統(tǒng),包括:
工藝設(shè)備,配置成提供與工藝設(shè)備加工晶圓關(guān)聯(lián)的參數(shù)數(shù)據(jù);
故障檢測(cè)和分類系統(tǒng),與所述工藝設(shè)備通信,其中所述故障檢測(cè)和分類系統(tǒng)被配置成:
限定所述工藝設(shè)備的區(qū)域,
基于所限定的區(qū)域?qū)⑺峁┑膮?shù)數(shù)據(jù)分組,以及
基于所分組的、提供的參數(shù)數(shù)據(jù)評(píng)估所述工藝設(shè)備的狀態(tài)。
9.如權(quán)利要求8所述的集成電路制造系統(tǒng),其中所述故障檢測(cè)和分類系統(tǒng)被配置成:
基于所述工藝設(shè)備的物理硬件配置限定所述工藝設(shè)備的所述區(qū)域;
通過將所述參數(shù)數(shù)據(jù)分配給所述工藝設(shè)備的與其關(guān)聯(lián)的物理硬件將所提供的參數(shù)數(shù)據(jù)分組。
10.如權(quán)利要求8所述的集成電路制造系統(tǒng),其中所述故障檢測(cè)和分類系統(tǒng)被配置成基于由所分組的、提供的參數(shù)數(shù)據(jù)展示的圖案評(píng)估所述工藝設(shè)備的所述狀態(tài)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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