[發明專利]監測溶液加工能力的方法及裝置、刻蝕系統無效
| 申請號: | 201210072211.7 | 申請日: | 2012-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN102650588A | 公開(公告)日: | 2012-08-29 |
| 發明(設計)人: | 王燦;郭煒 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/17 | 分類號: | G01N21/17 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 羅建民;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 監測 溶液 加工 能力 方法 裝置 刻蝕 系統 | ||
技術領域
本發明屬于平面顯示器領域,涉及一種監測溶液加工能力的方法及裝置、刻蝕系統。
背景技術
顯影和刻蝕工藝是薄膜晶體管-液晶顯示器(TFT-LCD)生產過程中常用的加工方法。其中,顯影工藝是將曝光圖樣放入顯影液中使圖樣顯現出來的工藝,刻蝕工藝是使金屬膜按照顯影后的圖樣刻蝕,以獲得所需圖樣的金屬膜。
對于顯影系統/刻蝕系統而言,顯影工藝/刻蝕工藝所需的顯影液/刻蝕液是循環使用的,顯影液/刻蝕液的濃度會隨著生產過程而下降或隨著生產而被污染,導致顯影液/刻蝕液的加工能力下降,如果不及時的更換或添加新的顯影液/刻蝕液,則容易造成顯影/刻蝕不充分,即出現欠顯影/欠刻蝕現象。因此,在實際的生產過程中,需要對顯影液/刻蝕液進行實時的監測,并根據監測結果更換或添加新的顯影液/刻蝕液,以確保顯影/刻蝕的效果。
目前所采用的監測方法是通過對顯影液/刻蝕液的某些物理或化學性質,如電導率進行監測而計算獲得,如果監測值超出能夠滿足顯影/刻蝕效果的范圍時,更換顯影液/刻蝕液。然而,上述監測方法不能真實有效地對顯影液/刻蝕液的加工能力進行評估,即不能真實有效地分析顯影液/刻蝕液的加工能力是否能夠滿足工藝的要求,從而容易造成顯影效果/刻蝕效果的不良,或者造成顯影液/刻蝕液的浪費。
發明內容
本發明要解決的技術問題就是針對現有技術中存在的上述缺陷,提供一種監測溶液加工能力的方法,其可以實時、準確地監測溶液的加工能力是否滿足工藝要求,從而可以提高溶液的加工效果,同時避免溶液的浪費。
本發明還提供一種監測溶液加工能力的監測裝置,其可以實時、準確地監測溶液的加工能力是否滿足工藝要求,從而可以提高溶液的加工效果,同時避免溶液的浪費。
另外,本發明還提供一種刻蝕系統,其可以實時、準確地監測刻蝕液的加工能力是否滿足工藝要求,從而可以提高刻蝕液的加工效果,同時避免刻蝕液的浪費。
解決上述技術問題的所采用的技術方案是提供一種監測溶液加工能力的方法,其用于在溶液腐蝕被加工工件的流水生產線中監測所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求,包括以下步驟:
在所述溶液腐蝕所述被加工工件的流水生產線的設定位置上,用光線照射所述被加工工件;
獲得設定位置處透過所述被加工工件的透射光的強度;
根據透過所述被加工工件的透射光的強度評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求。
其中,評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求的方式包括:
所述透射光的強度包括透射光的下限監測強度,用于監測溶液加工能力的下限;
比較所述透射光的下限監測強度與預設的標準透射光的強度的下限,若所述透射光的下限監測強度小于或等于所述預設的標準透射光的強度的下限,則表明所述溶液的加工能力偏低;或者,
根據所述透射光的下限監測強度獲得透射光的下限監測透過率,比較所述透射光的下限監測透過率與預設的標準透射光的透過率的下限,若所述透射光的下限監測透過率小于或等于所述預設的標準透射光的透過率的下限,則表明所述溶液的加工能力偏低。
其中,,評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求的方式還包括為:
所述透射光的強度還包括透射光的上限監測強度,用于監測溶液加工能力的上限;
比較所述透射光的上限監測強度與預設的標準透射光的強度的上限,若所述透射光的上限監測強度大于所述預設的標準透射光的強度的上限,則表明所述溶液的加工能力偏高;
或者,根據所述透射光的上限監測強度獲得光的上限監測透過率,比較所述透射光的上限監測透過率與預設的標準透射光的透過率的上限,若所述透射光的上限監測透過率大于所述預設的標準透射光的透過率的上限,則表明所述溶液的加工能力偏高。
本發明還提供一種監測溶液加工能力的監測裝置,其用于在溶液腐蝕被加工工件的流水生產線上監測所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求,包括:
光學監控單元,其用于在所述溶液腐蝕所述被加工工件的流水生產線的設定位置上,獲得透過所述被加工工件的透射光的強度,并將獲得的透過所述被加工工件的透射光的強度信號發送至分析單元;
分析單元,其根據接收到的所述光學監控單元獲得的透過所述被加工工件的透射光的強度信號計算所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求。
其中,所述光學監控單元包括光發射裝置和光接受裝置,所述光發射裝置與所述光接受裝置相對地設置在所述被加工工件的兩側,其中,
所述光發射裝置用于朝向所述被加工工件表面發出光;
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