[發(fā)明專利]監(jiān)測溶液加工能力的方法及裝置、刻蝕系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210072211.7 | 申請日: | 2012-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN102650588A | 公開(公告)日: | 2012-08-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王燦;郭煒 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/17 | 分類號: | G01N21/17 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 羅建民;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 監(jiān)測 溶液 加工 能力 方法 裝置 刻蝕 系統(tǒng) | ||
1.一種監(jiān)測溶液加工能力的方法,其用于在溶液腐蝕被加工工件的流水生產(chǎn)線中監(jiān)測所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求,其特征在于,包括以下步驟:
在所述溶液腐蝕所述被加工工件的流水生產(chǎn)線的設(shè)定位置上,用光線照射所述被加工工件;
獲得設(shè)定位置處透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度;
根據(jù)透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測溶液加工能力的方法,其特征在于,評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求的方式包括:
所述透射光的強(qiáng)度包括透射光的下限監(jiān)測強(qiáng)度,用于監(jiān)測溶液加工能力的下限;
比較所述透射光的下限監(jiān)測強(qiáng)度與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的強(qiáng)度的下限,若所述透射光的下限監(jiān)測強(qiáng)度小于或等于所述預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的強(qiáng)度的下限,則表明所述溶液的加工能力偏低;或者,
根據(jù)所述透射光的下限監(jiān)測強(qiáng)度獲得透射光的下限監(jiān)測透過率,比較所述透射光的下限監(jiān)測透過率與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的透過率的下限,若所述透射光的下限監(jiān)測透過率小于或等于所述預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的透過率的下限,則表明所述溶液的加工能力偏低。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)測溶液加工能力的方法,其特征在于,評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求的方式還包括為:
所述透射光的強(qiáng)度還包括透射光的上限監(jiān)測強(qiáng)度,用于監(jiān)測溶液加工能力的上限;
比較所述透射光的上限監(jiān)測強(qiáng)度與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的強(qiáng)度的上限,若所述透射光的上限監(jiān)測強(qiáng)度大于所述預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的強(qiáng)度的上限,則表明所述溶液的加工能力偏高;
或者,根據(jù)所述透射光的上限監(jiān)測強(qiáng)度獲得光的上限監(jiān)測透過率,比較所述透射光的上限監(jiān)測透過率與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的透過率的上限,若所述透射光的上限監(jiān)測透過率大于所述預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)透射光的透過率的上限,則表明所述溶液的加工能力偏高。
4.一種監(jiān)測溶液加工能力的監(jiān)測裝置,其用于在溶液腐蝕被加工工件的流水生產(chǎn)線上監(jiān)測所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求,其特征在于,包括:
光學(xué)監(jiān)控單元,其用于在所述溶液腐蝕所述被加工工件的流水生產(chǎn)線的設(shè)定位置上,獲得透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度,并將獲得的透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度信號發(fā)送至分析單元;
分析單元,其根據(jù)接收到的所述光學(xué)監(jiān)控單元獲得的透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度信號計算所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測溶液加工能力的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述光學(xué)監(jiān)控單元包括光發(fā)射裝置和光接受裝置,所述光發(fā)射裝置與所述光接受裝置相對地設(shè)置在所述被加工工件的兩側(cè),其中,
所述光發(fā)射裝置用于朝向所述被加工工件表面發(fā)出光;
所述光接受裝置用于采集由所述光發(fā)射裝置發(fā)出的透過所述被加工工件的透射光,并將其獲得的透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度信號發(fā)送至所述分析單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測溶液加工能力的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述分析單元包括:
信號接收子單元,其用于接收來自所述光學(xué)監(jiān)控單元獲得的透過所述被加工工件的透射光的強(qiáng)度信號;
計算子單元,其用于根據(jù)來自所述信號接收子單元的透射光的強(qiáng)度信號評估所述溶液的加工能力是否滿足工藝要求;
信號發(fā)射子單元,其用于根據(jù)所述計算子單元計算的結(jié)果發(fā)出相應(yīng)的溶液加工能力偏低或偏高的信號。
7.一種刻蝕系統(tǒng),包括刻蝕液罐、監(jiān)測裝置以及被加工工件的傳輸系統(tǒng),所述刻蝕液罐用于儲存刻蝕液,監(jiān)測裝置用于監(jiān)測所述刻蝕液的加工能力是否滿足工藝要求,所述傳輸系統(tǒng)用于在刻蝕過程中傳輸被加工工件,其特征在于,所述監(jiān)測裝置采用權(quán)利要求5-6所述的監(jiān)測溶液加工能力的監(jiān)測裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的刻蝕系統(tǒng),其特征在于,還包括供給裝置,所述供給裝置用于根據(jù)所述監(jiān)測裝置的監(jiān)測結(jié)果更換或添加刻蝕液。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的刻蝕系統(tǒng),其特征在于,包括兩個所述監(jiān)測裝置,所述兩個以上個監(jiān)測裝置設(shè)置在被加工工件的流水生產(chǎn)線上的不同位置,分別用于監(jiān)測溶液加工能力的下限和上限。
10.根據(jù)權(quán)利要求8-9任意一項所述的刻蝕系統(tǒng),其特征在于,所述的刻蝕系統(tǒng)用于顯影工藝。
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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