[發明專利]供應處理液的單元以及使用該單元處理基材的設備和方法

有效

• 申請號: 201210069435.2
• 申請日: 2009-11-25
• 公開（公告）號: CN102636960A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: 樸相旭;高在升
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/30;H01L21/67
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 梁興龍;武玉琴

1.一種基材處理設備，包括：

支撐基材的基材支撐單元；

具有噴嘴和處理液管道的噴嘴臂，所述噴嘴安裝在其上用于將處理液排放到置于所述基材支撐單元上的基材上，所述處理液管道內置在其中用于將處理液供應到所述噴嘴；和

噴嘴移動單元，用于移動所述噴嘴臂，并通過利用所述噴嘴臂的熱傳遞調節內置在所述噴嘴臂中的處理液管道內的處理液溫度。

2.如權利要求1所述的基材處理設備，其中所述噴嘴移動單元包括：

保持所述噴嘴臂的保持元件；

設置在所述保持元件上的溫度調節元件，用于調節所述保持元件的溫度；和

移動元件，用于在等待位置和處理位置之間移動所述保持元件。

3.如權利要求2所述的基材處理設備，其中所述保持元件包括：

第一保持架和第二保持架，用于通過沿著垂直于所述噴嘴臂長度方向的方向彼此遠離或接近地移動來保持所述噴嘴臂；和

第一驅動器，用于驅動第一保持架和第二保持架。

4.如權利要求3所述的基材處理設備，其中

第一保持架和第二保持架分別包括與所述噴嘴臂的側面垂直接觸設置的側壁和從所述側壁水平延伸接觸所述噴嘴臂底面的底壁，和

所述溫度調節元件收容在第一保持架和第二保持架的側壁內。

5.如權利要求4所述的基材處理設備，其中所述溫度調節元件是加熱盤管、溫度調節液管道、熱電元件和其組合中的一種。

6.如權利要求2所述的基材處理設備，其中所述移動元件包括：

支撐所述保持元件的水平支撐件；

移動桿，其與所述水平支撐件垂直連接并且其上設置有用于垂直移動所述水平支撐件的第二驅動器；和

第三驅動器，用于在所述等待位置和所述處理位置之間移動所述移動桿。

7.如權利要求1所述的基材處理設備，還包括設置在所述噴嘴臂的內壁和所述處理液管道之間的熱管，用于在所述噴嘴臂和所述處理液管道之間傳遞熱量。

8.如權利要求1所述的基材處理設備，還包括等待口，其提供所述噴嘴臂等待執行處理的位置，其中所述噴嘴移動單元在所述等待口提供的等待位置與所述基材上部的處理位置之間移動所述噴嘴臂。

9.如權利要求8所述的基材處理設備，其中

多個等待口沿著所述基材支撐單元的側面并排設置，

多個其上安裝有噴嘴的噴嘴臂分別設置在每個等待口處，和

所述噴嘴移動單元從多個噴嘴臂中選擇一個噴嘴臂并將所選擇的噴嘴臂從所述等待口提供的等待位置移動到所述基材上部的處理位置。