[發明專利]光刻裝置和補償中間掩模版引入的CDU的器件制造方法

有效

• 申請號: 201210063976.4
• 申請日: 2006-08-30
• 公開（公告）號: CN102566324A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: W·T·特爾;H·范德拉恩;C·M·奧文;T·J·戴維斯;T·D·希阿;T·A·帕克斯頓
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

技術領域

本發明涉及一種光刻裝置和制造器件的方法。

背景技術

光刻裝置是一種把所需的圖案施加到基底或部分基底上的機器。光刻裝置例如可以用在平板顯示器、集成電路(IC)和其它包含精細結構的器件的制造中。在常規的裝置中，可以用一種被稱作掩模或中間掩模版的構圖部件來產生一種對應于平板顯示器(或其它器件)的一個單獨層的電路圖案。該圖案可以通過成像到設置在基底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而被轉印到整個或部分基底上(例如，玻璃板)。

代替電路圖案，可以用構圖部件產生其它的圖案，如彩色濾光片圖案或點陣。代替掩模，構圖部件可以包括一種構圖陣列，該陣列包括單獨可控元件的一個陣列。與基于掩模的系統相比，該系統中圖案可以更快且低成本地改變。

平板顯示器基底典型的形狀為矩形。設計成曝光此類基底的光刻裝置可以提供一個覆蓋該矩形基底整個寬度的或是覆蓋部分寬度(例如一半寬度)的曝光區。基底可以在曝光區內被掃描，同時掩模或中間掩模版也被光束同步掃描。通過這種方式，圖案被轉印到基底。如果曝光區覆蓋基底的整個寬度，則可以用單次掃描完成曝光。如果曝光區覆蓋例如基底的一半寬度，則可以在第一次掃描之后橫向移動基底，并典型地執行再次掃描以曝光基底的其余部分。

目前，光刻工藝尤其用于形成具有非常小的圖案特征的器件，如集成電路器件。對減小圖案特征的尺寸一直存在著需求。對于特定的工藝，可形成的圖案特征尺寸的限制部分地由所使用的輻射波長決定。對于給定的波長和光刻裝置，不可能形成給定尺寸以下的圖案特征。但由于需要形成具有盡可能小的圖案特征的器件，通常運行盡可能接近限度的光刻系統。當操作一項接近分辨率極限的光刻工藝時，衍射效應可能導致寄生假像出現在投影到基底上的輻射圖案中，例如曝光到基底上的輻射圖案上顯現的寄生特征，但它們不是希望形成在基底上的那一部分圖案。

常規的裝置模擬寄生效應并改進由構圖部件設置的圖案，使得一旦考慮寄生效應，曝光在基底上的實際輻射圖案就盡可能地接近實際所需的圖案。除了改變構圖部件提供的圖案外，光刻裝置的其他工作設置對寄生圖案特征的產生也有影響。在試圖建立寄生效應模型時其他的常規裝置考慮到這些設置，以預測構圖部件的最佳設計以及光刻裝置的最佳工作設置以在基底上曝光所需的輻射圖案。

但是，預測寄生效應的模擬技術是不精確的。因此，一般需要使用這種模擬技術預測構圖部件的圖案，利用預測的圖案曝光基底，處理基底，檢查形成在基底上的所得圖案，以便確定與理想的圖案有多少不同，然后再利用這些信息改進對寄生效應的模擬，以提供構圖部件的修訂圖案。此工藝可能需要重復幾次，直到提供了關于構圖部件的令人滿意的圖案。這個工藝很耗時且昂貴，尤其如果把中間掩模版用作構圖部件更是如此，因為制造中間掩模版很昂貴，并且對于構圖部件的圖案的每次修訂都必需制造新的中間掩模版。

因此，我們需要一種工序不耗時、不昂貴的能確保在基底上曝光理想的輻射圖案的系統和方法。

發明內容

在本發明的一個實施例中，提供了一種光刻裝置，包括照明系統，構圖部件，投影系統和輻射檢查裝置。照明系統調節輻射束。構圖部件調節輻射束的截面。投影系統把調節的輻射束投影到基底的靶部上。輻射束檢查裝置檢查至少一部分調節的輻射束。該光刻裝置以基底曝光結構和輻射束檢查結構的狀態操作。以基底曝光結構操作時，光刻裝置構造成使得調制的輻射束在基底上曝光輻射圖案。以輻射束檢查結構操作時，輻射束檢查裝置檢查如果光刻裝置處于基底曝光結構時將要形成在基底上的輻射圖案。

在本發明的另一實施例中，提供了一種為了利用光刻裝置在基底上形成器件而優化光刻裝置的操作的方法，包括下列步驟：利用構圖部件調制輻射束；把調制的輻射束投影到輻射束檢查裝置上，檢查至少一部分調制的輻射束，以確定如果把調制的輻射束投影到基底時將被曝光在基底上的相應圖案。至少確定一個使將在基底上曝光的所需圖案與輻射束檢查裝置確定的圖案之間的差異最小化所必需的光刻裝置的操作改進。

下面將參考附圖詳細描述本發明的其他實施例、特征和優點，以及本發明各種實施例的構造和操作。

附圖說明

文中結合的并構成說明書一部分的附圖闡明了本發明的一個或多個實施例，并與文字部分一起進一步解釋了本發明的原理，使得本領域的技術人員能夠實施利用本發明。

圖1和2表示根據本發明各個實施例的光刻裝置；

圖3表示利用圖2所示本發明實施例的把圖案轉印到基底的模式；

圖4表示根據本發明一個實施例的光學設備的配置；