[發明專利]光刻裝置和補償中間掩模版引入的CDU的器件制造方法

有效

• 申請號: 201210063976.4
• 申請日: 2006-08-30
• 公開（公告）號: CN102566324A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: W·T·特爾;H·范德拉恩;C·M·奧文;T·J·戴維斯;T·D·希阿;T·A·帕克斯頓
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種光刻裝置，包括：

照明系統，其調節輻射束；

構圖部件，其調制輻射束；

投影系統，其把調制輻射束投射到基底的靶部；和

輻射束檢查裝置，其檢查至少一部分調制輻射束；

其中，處于基底曝光結構時，光刻裝置利用調制輻射束在基底上曝光輻射圖案，和

其中，處于輻射束檢查結構時，輻射束檢查裝置檢查光刻裝置處于基底曝光結構時將被曝光到基底上的輻射圖案；

其中光刻裝置還包括：

光學元件，其控制投影系統投射的調制輻射束，其中當光學元件設置為第一設置時，調制輻射束投射到被支撐在基底臺上的基底上，并當光學元件設置為第二設置時，調制輻射束投射到輻射束檢查裝置上。

2.根據權利要求1所述的光刻裝置，其中，

所述光學元件為平面反射器，所述平面反射器配置成在第一設置和所述第二設置之間旋轉。

3.如權利要求1所述的光刻裝置，還包括：

所需圖案數據存儲器，其儲存對應于至少一部分將要曝光在基底上的所需圖案的數據；和

校正控制器，其確定輻射束檢查裝置檢測到的圖案與所需圖案之間的差異，并確定至少一個使該差異最小化所必須的光刻裝置操作的修正。

4.如權利要求3所述的光刻裝置，其中：

光刻裝置的操作按照校正控制器確定的修正而修正，同時光刻裝置處于輻射束檢查結構；和

校正控制器確定輻射束檢查裝置檢測到的圖案與所需圖案之間的任何其它差異，并確定任何使該差異最小化所必須的光刻裝置操作的進一步修正。

5.如權利要求4所述的光刻裝置，其中：

構圖部件為單獨可控元件陣列；和

所述光刻裝置的操作的至少一項修正包括對單獨可控元件陣列設置的圖案的至少一項改變。

6.如權利要求5所述的光刻裝置，其中所述對單獨可控元件陣列設置的圖案的至少一項改變包括圖案特征的增加、圖案特征的去除和重新確定圖案特征尺寸中的至少一項。

7.如權利要求5所述的光刻裝置，其中：

所述單獨可控元件陣列構造成將調制制輻射束部分的強度設置為至少三個不同的水平；和

所述對單獨可控元件陣列設置的圖案的至少一項改變包括調節至少一部分輻射圖案中的調制輻射束的強度。

8.如權利要求5所述的光刻裝置，還包括校正圖案數據存儲器，其儲存對應于將要曝光到基底上的所需圖案的圖案數據，該圖案數據根據由校正控制器確定的單獨可控元件陣列設置的圖案的至少一項改變而修正，而單獨可控元件陣列是按照所述校正圖案數據存儲器中的圖案數據設置的。

9.如權利要求5所述的光刻裝置，還包括：

圖案校正數據存儲器，其儲存對應于由校正控制器確定的單獨可控元件陣列設置的圖案的至少一項改變的數據；和

單獨可控元件陣列按照儲存在所需圖案數據存儲器中的由儲存于圖案校正數據存儲器中的數據校正的所需圖案數據設置。

10.如權利要求3所述的光刻裝置，其中所述光刻裝置操作的至少一項修正包括照明系統提供的輻射束強度的改變，照明系統提供的輻射束調節的改變，以及投影系統的一項或多項設置的改變中的至少一種。

11.如權利要求10所述的光刻裝置，還包括：

系統設置數據存儲器，其儲存對應于所述照明系統提供的輻射束強度、照明系統提供的輻射束的調節以及投影系統的一項或多項設置中的至少一種改變；和

當光刻裝置處于基底曝光結構時，由使用儲存在系統設置數據存儲器中的數據的系統控制器控制光刻裝置。

12.如權利要求3所述的光刻裝置，其中曝光到基底上的所需圖案是對應于需要形成到基底上的圖案特征的圖案，該所需圖案根據曝光到基底上的輻射圖案和形成在基底上的圖案特征之間的基底處理條件的變化所產生的差異特征來修正。

13.如權利要求3所述的光刻裝置，其中所述的所需圖案數據存儲器儲存對應于至少一部分需要形成在基底上的特征圖案以及由曝光在基底上的輻射圖案與形成在基底上的圖案特征之間的基底的處理條件變化所產生的差異特征的數據；和

校正控制器由儲存在所述所需圖案數據存儲器中的數據來確定需要曝光到基底上的圖案。

14.一種利用光刻裝置在基底上形成器件的光刻裝置操作的優化方法，該方法包括：

利用構圖部件調制輻射束；

把調制輻射束投射到輻射束檢查裝置上，該裝置檢查至少一部分調制輻射束，以確定調制射束投影到基底時將要曝光到基底上的對應圖案；和

確定光刻裝置的操作的至少一項修正，使曝光到基底上的所需圖案與輻射束檢查裝置確定的圖案之間的差異最??；

其中，所述光刻裝置包括光學元件，利用所述光學元件控制投影系統投射的調制輻射束，其中當光學元件設置為第一設置時，調制輻射束投射到被支撐在基底臺上的基底上，并當光學元件設置為第二設置時，調制輻射束投射到輻射束檢查裝置上。