[發(fā)明專利]10560納米帶通紅外濾光片及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210063888.4 | 申請日： | 2012-03-12 |
| 公開（公告）號： | CN102590918A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 呂晶 | 申請（專利權(quán)）人： | 杭州麥樂克電子科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/28 | 分類號： | G02B5/28;G02B1/10;B32B9/04;B32B15/00;C23C14/54;C23C14/06;C23C14/14 |
| 代理公司： | 杭州金源通匯專利事務(wù)所(普通合伙) 33236 | 代理人： | 唐迅 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市西*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 10560 納米 通紅 濾光 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種紅外濾光片生產(chǎn)技術(shù)，特別是一種10560納米帶通紅外濾光片及其制作方法。
背景技術(shù)
當前六氟化硫(SF6)氣體在工業(yè)中應(yīng)用普遍，如：冷凍工業(yè)作為致冷劑，致冷范圍可在-45℃～0℃之間；電氣工業(yè)利用其很高介電強度和良好的滅電弧性能，用作高壓開關(guān)、大容量變壓器、高壓電纜和氣體的絕緣材料；采礦工業(yè)用作反吸附劑，用于礦井煤塵中置換氧。六氟化硫(SF6)氣體具有優(yōu)良的絕緣性能和滅弧性能，相應(yīng)的六氟化硫(SF6)應(yīng)用產(chǎn)品的可靠性高，檢修工作量少，周期長等與傳統(tǒng)手段相比具有不可比擬的優(yōu)點，使得六氟化硫(SF6)應(yīng)用日益廣泛。而此類氣體為溫室氣體，其排放將對全球變暖產(chǎn)生顯著負面影響，其溫室效應(yīng)相比二氧化碳排放高出2.39萬倍。伴隨著六氟化硫(SF6)大量的使用，其泄漏問題也開始顯現(xiàn)，如果SF6中混雜低氟化硫、氟化氫，特別是十氟化硫時，則毒性增強。在現(xiàn)有的工業(yè)生產(chǎn)中，為了保證生產(chǎn)進度，保護工人安全，通常會對SF6是否外泄進行檢測。六氟化硫(SF6)氣體紅外探測儀是利用六氟化硫(SF6)氣體對以10560納米為中心波長的紅外光譜吸收率非常高的特點進行檢測的設(shè)備，10560納米窄帶紅外濾光片作為六氟化硫(SF6)氣體紅外探測儀的核心部件，在很長時間里一直只能由國外采購，且窄帶的峰值透過率只能做到60％左右；其信噪比低，精度差，不能滿足市場發(fā)展的需要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種峰值透過率高，能極大的提高信噪比，有效檢測SF6的10560納米帶通紅外濾光片及其制作方法。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所設(shè)計的一種10560納米帶通紅外濾光片，其特征是：
(1)采用尺寸為Φ25.4×0.5mm的單晶鍺Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’；表面光潔度優(yōu)于60/40；
(2)鍍膜材料選擇硫化鋅ZnS和單晶鍺Ge，在基板兩個表面上分別沉積多層干涉薄膜，所述多層干涉薄膜符合下述第3結(jié)構(gòu)特征：
(3)主膜系面多層干涉薄膜采用Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air；截止面多層干涉薄膜采用以下結(jié)構(gòu)：
Sub|0.76(0.5HL0.5H)5?0.5(0.5HL0.5H)5?0.35(0.5HL0.5H)5?0.25(0.5HL0.5H)6?0.16(0.5HL0.5H)6|Air
膜系中符號含義分別為：Sub為基板、Air為空氣、H為λc/4單晶鍺膜層、L為λc/4硫化鋅膜層、λc＝10560納米、結(jié)構(gòu)式中數(shù)字為膜層的厚度系數(shù)、結(jié)構(gòu)式中的指數(shù)是膜堆鍍膜的周期數(shù)；
本發(fā)明提供的一種10560納米帶通紅外濾光片的制作方法，以鍺Ge為基板，硫化鋅ZnS和鍺Ge為鍍膜材料，采用真空熱蒸發(fā)薄膜沉積的方法制備鍍膜層，鍍膜工藝條件是在真空度≤10-3Pa的真空環(huán)境下進行300℃以下的加熱烘烤，采用物理氣相沉積方式加以離子源輔助鍍膜，其中：單晶鍺材料采用電子槍蒸發(fā)，硫化鋅材料采用阻蒸熱蒸發(fā)，蒸發(fā)速率均控制在1nm/S以內(nèi)。
本發(fā)明提供的一種10560納米帶通紅外濾光片的制作方法，是對主膜系面采用高級次透射帶的透過直接光控進行鍍膜控制，采用反射式間接光控對另一面的干涉截止膜系進行鍍膜控制。
本發(fā)明提供的一種10560納米帶通紅外濾光片的制作方法得到的10560納米帶通紅外濾光片，主膜系采用多腔窄帶膜系結(jié)構(gòu)，配合高截止深度的干涉截止膜系，波形系數(shù)為1.5～1.9，濾光片帶寬為0.18nm，峰值透過率為90％，中心波長定位10560納米。除中心波長10560納米帶寬180納米的通帶外，從400～14000納米范圍內(nèi)的其余光譜全部截止，能極大的提高信噪比，可以很好的抑制其他氣體的干擾，產(chǎn)品光學(xué)性能和物理強度能很好的滿足實際使用要求，廣泛應(yīng)用于高壓電器制造行業(yè)的六氟化硫(SF6)氣體紅外探測儀器，提高儀器探測精度和效能，可以做到更快速、更精確的確認泄漏點。
按本發(fā)明提供的一種10560納米帶通紅外濾光片的制作方法得到的10560納米帶通紅外濾光片，具有如下有益效果：
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