[發(fā)明專利]10560納米帶通紅外濾光片及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210063888.4 | 申請(qǐng)日： | 2012-03-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102590918A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 呂晶 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 杭州麥樂克電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B5/28 | 分類號(hào)： | G02B5/28;G02B1/10;B32B9/04;B32B15/00;C23C14/54;C23C14/06;C23C14/14 |
| 代理公司： | 杭州金源通匯專利事務(wù)所(普通合伙) 33236 | 代理人： | 唐迅 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市西*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 10560 納米 通紅 濾光 及其 制作方法 | ||
1.一種10560納米帶通紅外濾光片，其特征是：
(1)采用尺寸為Φ25.4×0.5mm的單晶鍺Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’；表面光潔度優(yōu)于60/40；
(2)鍍膜材料選擇硫化鋅ZnS和單晶鍺Ge，在基板兩個(gè)表面上分別沉積多層干涉薄膜，所述多層干涉薄膜符合下述第3結(jié)構(gòu)特征：
(3)主膜系面薄膜結(jié)構(gòu)采用Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air；干涉截止膜系面薄膜采用以下結(jié)構(gòu)：
Sub|0.76(0.5HL0.5H)5?0.5(0.5HL0.5H)5?0.35(0.5HL?0.5H)5?0.25(0.5HL?0.5H)6?0.16(0.5HL?0.5H)6|Air
膜系中符號(hào)含義分別為：Sub為基板、Air為空氣、H為λc/4單晶鍺膜層、L為λc/4硫化鋅膜層、λc＝10560納米、結(jié)構(gòu)式中數(shù)字為膜層的厚度系數(shù)、結(jié)構(gòu)式中的指數(shù)是膜堆鍍膜的周期數(shù)。
2.一種如權(quán)利要求1所述的10560納米帶通紅外濾光片的制作方法，其特征是以鍺Ge為基板，硫化鋅ZnS和鍺Ge為鍍膜材料，采用真空熱蒸發(fā)薄膜沉積的方法制備鍍膜層，鍍膜工藝條件是在真空度≤10-3Pa的真空環(huán)境下進(jìn)行300℃以下的加熱烘烤，采用物理氣相沉積方式加以離子源輔助鍍膜，其中：單晶鍺材料采用電子槍蒸發(fā)，硫化鋅材料采用阻蒸熱蒸發(fā)，蒸發(fā)速率均控制在1納米/S以內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的10560納米帶通紅外濾光片的制作方法，其特征是對(duì)主膜系面采用高級(jí)次透射帶的透過直接光控進(jìn)行鍍膜控制，采用反射式間接光控對(duì)另一面的干涉截止膜系進(jìn)行鍍膜控制。?
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