[發明專利]一種用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置無效
| 申請號: | 201210061598.6 | 申請日: | 2012-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN102636132A | 公開(公告)日: | 2012-08-15 |
| 發明(設計)人: | 王君林;王紹治;劉建;馬占龍;張玲花 | 申請(專利權)人: | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號: | G01B11/30 | 分類號: | G01B11/30 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標代理事務所 22210 | 代理人: | 南小平 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 光學 表面 粗糙 標定 參考 平面 生成 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及光學檢測技術領域,尤其涉及一種用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置。
背景技術
任何檢測儀器在使用之前都需要進行標定,用于光學材料表面粗糙度測量的干涉儀也不例外。通常情況下,干涉儀的粗糙度標定使用的是由廠家提供的標定塊,一般是將硅或碳化硅的表面拋光后得到。但是這種標定塊存在幾點問題:各標定塊之間以及同一標定塊的不同位置的粗糙度難以均勻,且有的地方存在瑕疵和缺陷。所以在使用不同標定塊或使用同一標定塊的不同位置進行標定時,標定塊的不均勻性會影響標定的精度,增大標定的誤差;標定塊的表面粗糙度并不是非常好,這樣會降低檢測儀器的標定精度,尤其是在儀器測量高質量的表面時,標定所帶來的誤差會湮沒真實的數據,導致檢測結果不準確;標定塊維護不便,在空氣中放置落灰后擦拭比較困難。
發明內容
本發明目的是為了克服現有標定塊參考表面的不足,提出了一種表面粗糙度極低,表面均勻性極好的用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置。
本發明的技術方案是,一種用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置,該裝置包括液態水銀、容器外壁、容器口、阻尼結構和密封蓋;所述阻尼結構位于容器外壁內部下方;所述阻尼元件是排列的立柱或柵格板;所述容器口大小與光學粗糙度檢測鏡頭的口徑相同;所述密封蓋與容器口是螺紋連接且密閉。
本發明的有益效果:本發明中參考平面由放置在容器中的液態水銀形成,水銀的單一、均質和穩定的特性,具有良好的時間、空間不變性,以及制作的一致性實現了參考平面表面粗糙度極低,表面均勻性極好,無瑕疵和缺陷;本發明裝置制作簡單、維護容易,便于操作和攜帶。
附圖說明
圖1是本發明一種用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置示意圖;
圖2是本發明裝置中阻尼元件為立柱和柵格結構時的示意圖。
圖中:1、光學粗糙度檢測鏡頭,2、液態水銀,3、容器外殼,4、容器口,5、阻尼元件,6、密封蓋。
具體實施方式
如圖1所示,本發明一種用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置,該裝置包括液態水銀2、容器外壁3、容器口4、阻尼結構5和密封蓋6;所述阻尼結構5位于容器外壁3內部下方。密封蓋6與容器口4是螺紋連接且密閉。其中容器外殼3、阻尼元件5和密封蓋6的材料是相同的,優選材料為高分子材料,也可以是玻璃或金屬材料。如圖2所示,圖b為優選的阻尼元件結構形式為柵格狀,也可以是圖a立柱狀。阻尼元件5的存在是為了讓液態水銀2迅速穩定下來,以減少平衡所需要的時間。容器外殼3的正上方設置容器口4,為了盡量減少水銀的揮發,開口尺寸應盡量小,滿足粗糙度標定的使用即可,可以與光學粗糙度檢測鏡頭1口徑相同。容器內液態水銀2液面的高度應超出阻尼元件5的高度1mm~5mm為適宜,超出太多會增大液面穩定所需要的時間。在粗糙度標定之前,先將密封蓋6打開,把整個裝置置于光學粗糙度檢測鏡頭1的正下方,靜置一段時間后,液態水銀2所形成的表面即可用于白光干涉儀粗糙度的標定;標定后,將密封蓋6旋緊以保持密封。應保證每次操作周圍環境溫度都是相同的。
本發明中參考平面由放置在容器中的液態水銀形成,表面粗糙度極低,表面均勻性極好,無瑕疵和缺陷。
該參考平面由于水銀的單一、均質和穩定的特性,具有良好的時間、空間不變性,以及制作的一致性,可用于白光干涉儀粗糙度標定的參考標準。與水、油等其它液體相比,使用液態水銀所生成的參考平面散射光少,反射率高,更適合作為粗糙度標定的參考平面。
本發明一種用于光學表面粗糙度標定的參考平面生成裝置制作簡單、維護容易,便于操作和攜帶。
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