[發明專利]一種基于PNP型三極管輔助觸發的雙向可控硅器件無效
| 申請號: | 201210060567.9 | 申請日: | 2012-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN102544068A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 鄭劍鋒;韓雁;馬飛;董樹榮;吳健;苗萌;曾杰 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L29/74 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡紅娟 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 pnp 三極管 輔助 觸發 雙向 可控硅 器件 | ||
1.一種基于PNP型三極管輔助觸發的雙向可控硅器件,其特征在于,包括:
P襯底層(10)和四個PNP型三極管;
所述的P襯底層(10)上從左到右依次設有第一N阱(21)、P阱(23)和第二N阱(22),所述的P阱(23)與第一N阱(21)和第二N阱(22)并排相連;
所述的第一N阱(21)上從左到右依次并排設有第一N+有源注入區(41)、第一P+有源注入區(51)和第二N+有源注入區(42);所述的第二N阱(22)上從左到右依次并排設有第三N+有源注入區(43)、第二P+有源注入區(52)和第四N+有源注入區(44);
所述的第一N+有源注入區(41)和第一P+有源注入區(51)通過第一金屬電極(61)相連,所述的第二P+有源注入區(52)和第四N+有源注入區(44)通過第二金屬電極(62)相連;
所述的第三N+有源注入區(43)與第二PNP型三極管的發射極和基極相連,第一PNP型三極管的集電極和基極與第一金屬電極(61)相連;所述的第二N+有源注入區(42)與第三PNP型三極管的發射極和基極相連,第四PNP型三極管的集電極和基極與第二金屬電極(62)相連;第一PNP型三極管的發射極與第二PNP型三極管的集電極相連,第三PNP型三極管的集電極與第四PNP型三極管的發射極相連。
2.根據權利要求1所述的基于PNP型三極管輔助觸發的雙向可控硅器件,其特征在于:所述的第一N+有源注入區(41)與第一P+有源注入區(51)、第一P+有源注入區(51)與第二N+有源注入區(42)、第二N+有源注入區(42)與第三N+有源注入區(43)、第三N+有源注入區(43)與第二P+有源注入區(52)或第二P+有源注入區(52)與第四N+有源注入區(44)通過淺槽(3)隔離。
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