[發明專利]一種校正輻射成像中散射影響的方法及裝置有效

申請號：	201210055815.0	申請日：	2012-03-05
公開（公告）號：	CN103284734A	公開（公告）日：	2013-09-11
發明（設計）人：	章健;盧建平;周子剛;常小莎	申請（專利權）人：	上海聯影醫療科技有限公司
主分類號：	A61B6/00	分類號：	A61B6/00;A61B6/03
代理公司：	上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237	代理人：	鄭瑋
地址：	201203 上海市嘉定區***	國省代碼：	上海;31
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種校正輻射成像散射影響方法裝置
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【說明書】：

技術領域

本發明涉及輻射成像技術，尤其涉及一種校正輻射成像中散射影響的方法及裝置。

背景技術

在各種輻射成像(包括X射線，可見光，紅外線等等)技術的應用中，輻射源發出射線，照射到成像物體上，探測器不僅會探測到主光線照射成像物體或人體產生的主成像信號，還會探測到各種散射射線產生的散射信號。特別是當輻射成像系統采用多個輻射源時，探測器還會接收到不同輻射源的散射射線產生散射信號?；旌显谥鞒上裥盘栔械纳⑸湫盘柾鶗乐亟档拖到y的成像質量，例如減低軟組織圖像的對比度，并有可能產生嚴重的圖像偽影，圖像質量的下降進而會要求增加病人在成像檢測過程中所受到的輻射劑量等等。

為了解決輻射成像中的散射問題，業界提出了多種解決辦法?，F以X射線成像為例闡述現有技術中的解決手段：第一類方法是在原有的X射線成像系統中添加某種附加器件，從而減少進入探測器的散射X射線信號，如傳統的、目前被廣泛采用的防散射光柵技術。但是這一方法仍然存在諸多弊端：1)該方法只能夠在一定程度上減少被探測信號中的散射分量，而不能完全消除散射的影響；2)由于需要在系統中增加額外的部件，其物理存在有可能限制系統在成像過程中的掃描方式；3)由于額外部件的引入，其在屏蔽散射輻射信號的同時也會減弱探測器探測到的主輻射信號的強度，進而可能不得不通過增加成像所需輻射劑量去彌補這一損失。第二類方法是通過限制從輻射源發出的輻射光束的寬度，限制每次輻射信號采集時被照射的物體范圍，即每次主成像信號采集時只照射成像物體或人體的一小部分，從而減少探測器收集到的信號中交叉散射輻射信號的強度，如基于狹縫掃描相關的成像技術。該方法的缺點是要通過多次連續曝光才能夠覆蓋整個物體，從而得到最終的完整圖像，這會大大減低系統的成像速度。第三類方法是在系統成像完成以后進行圖像后期校正和散射減除的方法改良圖像質量。其中包括基于解析的方法，經驗算法，蒙特卡洛模擬，基于解析的模擬方法，以及基于屏蔽塊的測量方法。但是這種方法的最終成像質量和對于散射輻射分量的去除效果在很大程度上取決于所用方法對于每一幅X射線圖像中散射分量成分的正確估計，而這也往往非常難以做到。而基于屏蔽塊的方法則要求對病人進行兩次成像，從而減低了成像速度而且增加了病人接受的輻射劑量。

發明內容

本發明的目的是提供一種校正輻射成像中散射影響的方法及裝置，從而有效減低輻射成像中的散射分量的成分，提高成像質量。

為了解決上述技術問題，本發明采用了如下技術手段：一種校正輻射成像中散射影響的方法，所述方法包括如下步驟：

步驟1、將具有多個不同頻率的輻射束組成的復合輻射束照射成像物體，通過探測器接收到所述成像物體的探測信號；

步驟2、將所述探測信號進行解復用分解處理，根據不同頻率將散射信號從主成像信號中分離出去。

進一步的，所述輻射源是具有不同頻率的多個獨立的X射線源組成的X射線陣列。

進一步的，所述輻射源是這樣實現的：將單個X射線源射出的射線經過一定的編碼機制進行編碼調制，產生具有不同的調制信號的多個獨立子輻射束。

進一步的，所述分離過程在頻率空間完成。

本發明提供的另一種技術方案為一種校正輻射成像中散射影響的裝置，包括輻射源、輻射源前端的準直裝置，以及探測器，以及還包括用于對探測到的圖像信號進行反復用的解復用裝置。

進一步的，所述裝置還包括對輻射源進行編碼調制的編碼裝置。

進一步的，所述解復用裝置為解碼裝置。

進一步的，所述編碼裝置采取百葉窗結構，所述百葉窗結構關閉時統一關閉，打開時以不同頻率打開，以使射線按不同頻率通過。