[發明專利]一種校正輻射成像中散射影響的方法及裝置

有效

• 申請號: 201210055815.0
• 申請日: 2012-03-05
• 公開（公告）號: CN103284734A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 章健;盧建平;周子剛;常小莎
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00;A61B6/03
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種校正輻射成像中散射影響的方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟：

步驟1、將具有多個不同頻率的輻射束組成的復合輻射束照射成像物體，通過探測器接收到所述成像物體的探測信號；

步驟2、將所述探測信號進行解復用分解處理，根據不同頻率將散射信號從主成像信號中分離出去。

2.如權利要求1所述的校正輻射成像中散射影響的方法，其特征在于，所述輻射源是具有不同頻率的多個獨立的X射線源組成的X射線陣列。

3.如權利要求1所述的校正輻射成像中散射影響的方法，其特征在于，所述輻射源是這樣實現的：將單個X射線源射出的射線經過一定的編碼機制進行編碼調制，產生具有不同的調制信號的多個獨立子輻射束。

4.如權利要求1所述的校正輻射成像中散射影響的方法，其特征在于，所述分離過程在頻率空間完成。

5.一種校正輻射成像中散射影響的裝置，包括輻射源、輻射源前端的準直裝置，以及探測器，其特征在于，所述裝置還包括用于對探測到的圖像信號進行反復用的解復用裝置。

6.如權利要求5所述的校正輻射成像中散射影響的裝置，其特征在于，所述裝置還包括對輻射源進行編碼調制的編碼裝置。

7.如權利要求5所述的校正輻射成像中散射影響的裝置，其特征在于，所述解復用裝置為解碼裝置。

8.如權利要求7所述的校正輻射成像中散射影響的裝置，其特征在于，所述編碼裝置采取百葉窗結構，所述百葉窗結構關閉時統一關閉，打開時以不同頻率打開，以使射線按不同頻率通過。

9.如權利要求7所述的校正輻射成像中散射影響的裝置，其特征在于，所述編碼裝置為帶有多行多列窗口的開關裝置，所述窗口使射線完全透過，所述窗口之外部分阻擋射線透過。

10.如權利要求9所述的校正輻射成像中散射影響的裝置，其特征在于，所述編碼裝置中每行窗口的大小和排列密度不同，以實現調制成不同的頻率。

11.如權利要求10所述的校正輻射成像中散射影響的裝置，其特征在于，所述編碼裝置在調制時沿著垂直于射線方向移動。