[發明專利]鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜、制備方法及其應用有效
| 申請號: | 201210047870.5 | 申請日: | 2012-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN103289687A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | 周明杰;王平;陳吉星;黃輝 | 申請(專利權)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/64 | 分類號: | C09K11/64;H01L33/26;H01L33/00 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
| 地址: | 518100 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 摻雜 硫代鋁酸鹽 發光 薄膜 制備 方法 及其 應用 | ||
1.一種鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜,其特征在于,該鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的化學通式為MeAl2-xS4:xCe3+,其中MeAl2-xS4是基質,Ce元素是激活元素,0.01≤x≤0.08,其中,Me為Mg、Ca、Sr或Ba。
2.根據權利要求1所述的鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜,其特征在于,所述鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的厚度為80nm~300nm。
3.一種鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將襯底裝入化學氣相沉積設備的反應室,并將反應室的真空度設置為1.0×10-2Pa~1.0×10-3Pa;
調節襯底的溫度為250℃~650℃,轉速為50轉/分鐘~1000轉/分鐘,在氬氣氣流的載體下,根據MeAl2-xS4:xCe3+各元素的化學計量比將(DPM)2Me,三甲基鋁和四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)鈰通入反應室內;及
通入硫化氫氣體,進行化學氣相沉積得到化學表達式為MeAl2-xS4:xCe3+的鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜,其中MeAl2-xS4是基質,Ce元素是激活元素,0.01≤x≤0.08,Me為Mg、Ca、Sr或Ba。
4.根據權利要求3所述的鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的制備方法,其特征在于,所述(DPM)2Me,三甲基鋁和四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)鈰的摩爾比為1∶(0.92~0.99)∶(0.01~0.08)。
5.根據權利要求3所述的鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的制備方法,其特征在于,所述氬氣氣流量為5~15sccm,所述硫化氫氣流量為10~200sccm。
6.根據權利要求3所述的鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的制備方法,其特征在于,將所述襯底裝入所述反應室后將所述襯底在600℃~800℃下熱處理10分鐘~30分鐘。
7.一種薄膜電致發光器件,該薄膜電致發光器件包括依次層疊的襯底、陽極層、發光層以及陰極層,其特征在于,所述發光層的材料為鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜,該鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的化學表達式為MeAl2-xS4:xCe3+,其中MeAl2-xS4是基質,Ce元素是激活元素,0.01≤x≤0.08,其中,Me為Mg、Ca、Sr或Ba。
8.根據權利要求7所述的薄膜電致發光器件的制備方法,其特征在于,所述發光層的厚度為80nm~300nm。
9.一種薄膜電致發光器件的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供具有陽極的襯底;
在所述陽極上形成發光層,所述發光層的材料為鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜,該鈰摻雜硫代鋁酸鹽發光薄膜的化學表達式為MeAl2-xS4:xCe3+,其中MeAl2-xS4是基質,Ce元素是激活元素,0.01≤x≤0.08,其中,Me為Mg、Ca、Sr或Ba;及
在所述發光層上形成陰極。
10.根據權利要求9所述的薄膜電致發光器件的制備方法,其特征在于,所述發光層的制備包括以下步驟:
將襯底裝入化學氣相沉積設備的反應室,并將反應室的真空度設置為1.0×10-2Pa~1.0×10-3Pa;
調節襯底的溫度為250℃~650℃,轉速為50轉/分鐘~1000轉/分鐘,在氬氣氣流的載體下,根據MeAl2-xS4:xCe3+各元素的化學計量比將(DPM)2Me,三甲基鋁和四(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)鈰通入反應室內,氬氣氣流量為5~15sccm;及
通入硫化氫氣體,硫化氫氣流量為10~200sccm,進行化學氣相沉積薄膜在所述陽極上形成發光層。
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