[發明專利]干擾素α突變體及其聚乙二醇衍生物

有效

• 申請號: 201210043375.7
• 申請日: 2012-02-23
• 公開（公告）號: CN102532299A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 周敏毅;劉金毅;程永慶
• 申請（專利權）人: 北京三元基因工程有限公司
• 主分類號: C07K14/56
• 分類號: C07K14/56;C07K17/08;A61K38/21;A61K47/48;A61P31/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明一般的涉及干擾素α突變體、其聚乙二醇衍生物，后者的制備方法、藥物組合物和兩者在制備治療病毒性疾病的藥物中的用途，特別的涉及復合干擾素半胱氨酸突變體、其聚乙二醇衍生物，后者的制備方法、藥物組合物和兩者在制備治療病毒性疾病的藥物中的用途。

背景技術

干擾素(interferon，IFN)是一種最初由動物機體產生的具有廣譜抗病毒作用的細胞因子類藥物，根據其產生部位與作用機理不同可以分為α、β、γ、λ等大的類型，而每種大的類型又可分為若干小的亞型，同一大的類型中不同的亞型間在一級結構上差異很小，在二級以上高級結構上非常接近。在幾種大的類型中，α型是應用最廣的一種，目前臨床應用的此型干擾素主要包括干擾素α2a、干擾素α2b、干擾素α1b、復合干擾素等。其中復合干擾素(consensus?interferon或integrated?interferon)是在對已知的α型干擾素進行序列比對后，把出現頻率最高的氨基酸分配到各自相應的位置，并對個別位置進行修改后得到的非天然氨基酸序列的人工設計α型干擾素，包括多種氨基酸序列的分子，但彼此間同源性高，它們的生物學活性為天然α型干擾素的10倍以上。

雖然各種α型干擾素在當前治療病毒性感染疾病的過程中發揮著越來越廣泛的療效，但是其自身穩定性差、半衰期短的特點也限制了其進一步的臨床推廣應用，給病人用藥帶來了一些麻煩。鑒于此原因，國內外開展了很多長效干擾素方面的基礎研究與產品開發，包括對干擾素分子自身進行改造、研發包括干擾素分子氨基酸序列的融合蛋白、對干擾素分子進行化學修飾、選擇適宜的藥物輸送體系優化干擾素分子的體內輸送與藥效發揮過程等，其中聚乙二醇修飾干擾素(屬于化學修飾的干擾素)的上市是在這一領域取得的最大成功。

聚乙二醇(polyethelene?glycol，PEG)是一種線性高分子化合物，由于其良好的生物相容性和既親水又親酯的雙親特性，得以從眾多的化學修飾劑中脫穎而出成為目前研究與應用最廣的蛋白多肽類藥物的修飾劑。經過多年的研究開發，目前已有兩個PEG修飾的干擾素α產品成功上市，分別是美國先靈葆雅(Schering-Plough)公司(現已被默沙東公司收購)的PEG修飾的干擾素α2b(商品名為“佩樂能”)和瑞士羅氏(Roche)公司的PEG修飾的干擾素α2a(商品名為“派羅欣”)，分別于2001年和2002年在美國上市，在2003年同時進入中國內地銷售。關于先靈葆雅公司的PEG修飾的干擾素α2b，在中國專利申請CN00808452.1中對其配方組成有所描述；而羅氏公司的PEG修飾的干擾素α2a則在中國專利CN97113049.3中有詳細描述。除此之外，還有更多的PEG修飾的干擾素α產品正在研究開發中，其中最接近上市階段的是Intermune公司開發的PEG修飾的復合干擾素。

縱觀PEG修飾干擾素α技術的發展，主要是伴隨著PEG修飾技術的發展。早期的研究和開發主要圍繞非特異性位點PEG修飾技術，所選用的PEG修飾劑純度低、分子量小(一般在10KDa以下)且分布范圍寬、修飾位點種類和數量多且形成的修飾衍生物不穩定，造成修飾產物組成不均一、純度相對較低(85％左右)、質量控制不易實現、長效作用不明顯且仍有一定的毒副作用。上述先靈葆雅公司的PEG修飾的干擾素α2b產品就屬于此類型。伴隨著PEG修飾劑的發展出現了特異性位點PEG修飾技術，由于所選用的PEG修飾劑的純度得到了很大提高，分子量可達20KDa以上且分布范圍大幅縮窄，且修飾機理的改善使修飾位點種類和數量減少，形成的修飾衍生物穩定性提高，從而使上述非特異性位點PEG修飾技術的缺點得到了很大程度的改善。

特異性位點PEG修飾技術又可分為三種類型，一種是用具有分支結構的PEG修飾劑修飾目標蛋白分子，借助分支結構PEG修飾劑較強的空間位阻效應達到減少修飾位點數量的目的。上述羅氏公司的PEG修飾的干擾素α2a產品就屬于此類型。但是由于這種所謂的“特異性位點”修飾技術從修飾機理上既不能做到只修飾單一種類的氨基酸，也不能做到只修飾單一位點的氨基酸，所以修飾位點的種類與數目依然眾多，如中國專利CN200380103341.1公開了分支結構PEG修飾的干擾素α2a(包括羅氏公司的PEG修飾干擾素α2a產品“派羅欣”)具有12個修飾位點的異構體。