[發明專利]一種酸性蝕刻液的處理方法

有效

• 申請號: 201210039680.9
• 申請日: 2012-02-21
• 公開（公告）號: CN102534621A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 顧順超;管世兵;嚴俊
• 申請（專利權）人: 上海正帆科技有限公司;上海正帆半導體設備有限公司;上海交通大學
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所 31233
• 代理人: 黃志達;謝文凱

1.一種酸性蝕刻液的處理方法，包括：

(1)用酸性混合溶液對硅片進行蝕刻處理，將蝕刻處理后的混合溶液稀釋，對混合溶液中的氫氟酸和/或醋酸通過非水中和滴定法進行定量分析，對混合溶液中的硝酸通過硝酸根電極進行定量分析，得到蝕刻后混合溶液的組成濃度增減量；

(2)根據上述增減量，在蝕刻過程中或在循環液中添加濃度減少的酸，重新作為硅片的處理液即可。

2.根據權利要求1所述的一種酸性蝕刻液的處理方法，其特征在于：所述步驟(1)中的非水中和滴定法采用的裝置為測量電位滴定儀，采用的非水溶劑為苯、二惡烷、丙酮、乙腈、烴、氯仿、氯苯、甲基異丁基酮、醚、氯化亞砜或硝基甲烷，采用的標準滴定溶液為0.1mol/L氫氧化鈉的乙醇溶液。

3.根據權利要求2所述的一種酸性蝕刻液的處理方法，其特征在于：所述非水溶劑為丙酮。

4.根據權利要求1所述的一種酸性蝕刻液的處理方法，其特征在于：所述步驟(1)中的酸性混合溶液的組成為硝酸、氫氟酸和醋酸，蝕刻處理前的混合溶液中含30～60wt％的硝酸、2～20wt％的氫氟酸和10～30wt％的醋酸，其余為水。

5.根據權利要求4所述的一種酸性蝕刻液的處理方法，其特征在于：所述蝕刻處理前的混合溶液中含35～45wt％的硝酸、2～15wt％的氫氟酸和15～25wt％的醋酸，其余為水。

6.根據權利要求1所述的一種酸性蝕刻液的處理方法，其特征在于：所述步驟(1)中的酸性混合溶液還含有硫酸或磷酸時，通過Dry-up法進行定量分析。

7.根據權利要求1所述的一種酸性蝕刻液的處理方法，其特征在于：所述步驟(2)中酸的添加量用蝕刻處理前的標準值與蝕刻處理后的測量值間的差值乘以混合溶液的用量求得。