[發(fā)明專利]一種鈉鈣玻璃襯底上CIGS吸收層的制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210035816.9 | 申請日: | 2012-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN103258898A | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬格林;張建柱;孫玉娣;彭博 | 申請(專利權(quán))人: | 任丘市永基光電太陽能有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35;C23C14/24;C23C14/06 |
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| 地址: | 062550 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 玻璃 襯底 cigs 吸收 制備 方法 | ||
一、技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明專利涉及光伏器件CIGS薄膜太陽電池的制備工藝,尤其涉及鈉鈣玻璃襯底上吸收層CIGS的沉積和處理方法。?
二、背景技術(shù)
對薄膜太陽電池組件來說,迄今為止,用Cu(InGa)Se2(CIGS)薄膜做吸收層的太陽電池具有最高的光電轉(zhuǎn)換效率。Mo/CIGS背接觸靠近CIGS最大吸收區(qū),背接觸特性嚴(yán)重退化,可導(dǎo)致吸收效率降低。降低背接觸影響的第一個方法為使用粘附層,增加CIGS在Mo的附著性,降低背接觸電阻,增加空穴載流子的收集效率;第二個方法為使用帶隙梯度,使靠近吸收層背面的Ga含量最大,靠近吸收層表面的Ga含量最小。通過增加吸收層的晶粒尺寸和晶粒排列有序度增加載流子遷移率,可降低載流子復(fù)合。此外二次相CuxSe的導(dǎo)電性使CIGS/CdS界面的漏電流增加,增大了CIGS表面粗糙度,因此除掉CuxSe,既可減小CIGS表面粗糙度,不但可降低載流子表面復(fù)合,還可,形成貧銅的CIGS鏡狀表面,改善CIGS/CdS界面的電學(xué)特性。當(dāng)前通過典型的三步法和高溫Se化法沉積的CIGS吸收層并不能保證形成Ga分布的“后偏析”,大的柱狀晶粒,Mo/CIGS界面良好的歐姆特性。?
發(fā)明內(nèi)容
針對當(dāng)前CIGS吸收層與Mo的粘附性不好,Mo背接觸的歐姆特性較差,不易形成柱狀大晶粒,Ga的后偏析,二次相CuxSe導(dǎo)電性對CIGS/CdS界面的影響等,提出了在沉積工藝位置帶來的不利影響,本Na摻雜方法要解決的問題是如何避免Na對CIGS膜層生長的不利影響,充分發(fā)揮其增強(qiáng)P型導(dǎo)電作用的問題,提出了在Mo與CIGS間形成CuGaSe2,在沉積(In1-xGax)3Se5預(yù)制層時采用高的[Ga]/[In+Ga],采用590℃和高的[Cu]/[In+Ga]形成富銅的滿足化學(xué)計量比的Cu(InGa)Se2,最后通過Br2水溶液刻蝕和沉積In2Se3形成貧銅的表面層,并對其進(jìn)行退火處理。?
優(yōu)選的,Cu源的蒸發(fā)溫度固定在1070℃,Se源的蒸發(fā)溫度固定在185℃,Ga源的蒸發(fā)溫度固定在890℃,使在380℃下,沉積[Cu]/[Ga]=1.55,0.2μm厚的CuGaSe2膜層層增強(qiáng)CIGS層在涂敷Mo的鈉鈣玻璃沉底上的附著性,減小背接觸電阻,增強(qiáng)Mo的歐姆接觸特性,同時有利于生長貫穿整個膜層厚度的,垂直于膜層表面排列的柱狀晶粒。?
優(yōu)選的,沉積(In1-xGax)3Se5預(yù)制層時,In源的蒸發(fā)溫度為930℃,Ga源的蒸發(fā)溫度?為1100℃,In源的蒸發(fā)溫度為215℃。?
優(yōu)選的,(In1-xGax)3Se5預(yù)制層的沉積溫度為400℃。?
優(yōu)選的,沉積(In1-xGax)3Se5預(yù)制層時,In的蒸發(fā)沉積速率為?/sec,Ga的蒸發(fā)沉積速率為?/sec,Se的蒸發(fā)沉積速率為?/sec,[Ga]/[In+Ga]~0.43。?
優(yōu)選的,(In1-xGax)3Se5預(yù)制層的沉積時間為16min。?
優(yōu)選的,預(yù)制層(In1-xGax)3Se5沉積結(jié)束后,關(guān)閉Ga源使其蒸發(fā)沉積速率降低為零后再關(guān)閉In源。?
優(yōu)選的,當(dāng)In源的蒸發(fā)沉積速率降低為零后,在Se氣氛中,7min內(nèi)將襯底從400℃升高至590℃。?
[0010]優(yōu)選的,沉積富銅化學(xué)計量比的Cu(InGa)Se2膜時,Cu源的蒸發(fā)溫度為1300℃,Cu的蒸發(fā)沉積速率為?/sec。
優(yōu)選的,富銅化學(xué)計量比的Cu(InGa)Se2膜的沉積時間為20min,20min后[Cu]/[In+Ga]達(dá)到最大值1.25,此外膜層沉積16min時獲得化學(xué)計量比的Cu(InGa)Se2。?
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





