[發明專利]提升共軛高分子的發光及發電性能的方法

無效

• 申請號: 201210034810.X
• 申請日: 2012-02-16
• 公開（公告）號: CN102956842A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 楊長謀;陳建中;陳柏村
• 申請（專利權）人: 楊長謀
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 程殿軍

1.一種提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，包含：

預備至少一層共軛高分子層；以及

使該至少一層共軛高分子層產生機械形變。

2.根據權利要求1所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中該共軛高分子層為共軛高分子薄膜。

3.根據權利要求2所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該至少一層共軛高分子薄膜的步驟包含：

預備一共軛高分子溶液；以及

將該共軛高分子溶液借由一程序形成該至少一層共軛高分子薄膜。

4.根據權利要求3所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該共軛高分子溶液的步驟包含：

預備至少一種共軛高分子；以及

將該至少一種共軛高分子溶解于一溶劑中，以形成該共軛高分子溶液。

5.根據權利要求3所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該共軛高分子溶液的步驟包含：

將至少一種共軛高分子與一種或多種物質混合，以形成一混合物；以及

將該混合物溶解于一溶劑中，以形成該共軛高分子溶液。

6.根據權利要求2所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該至少一層共軛高分子薄膜的步驟包含：

預備至少一種含共軛官能基的分子作為一單體；以及

將該單體在電漿中活化或進行蒸鍍程序，并進行聚合，以形成該至少一層共軛高分子薄膜。

7.根據權利要求2所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該至少一層共軛高分子薄膜的步驟包含：

將至少一種含共軛官能基的分子與一種或多種物質混合，以形成一復合單體；以及

將該復合單體在電漿中活化或進行蒸鍍程序，并進行聚合，以形成該至少一層共軛高分子薄膜。

8.根據權利要求1所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該至少一層共軛高分子層的步驟包含：

預備至少一種共軛高分子；以及

將該至少一種共軛高分子借由一程序形成該至少一層共軛高分子層。

9.根據權利要求1所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中預備該至少一層共軛高分子層的步驟包含：

將至少一種共軛高分子與一種或多種物質混合，以形成一混合物；以及

將該混合物借由一程序形成該至少一層共軛高分子層。

10.根據權利要求5、7或9所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中該一種或多種物質包含小分子、高分子、碳球、碳管及金屬顆粒之一或其組合。

11.根據權利要求3、8或9所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中該程序包含旋轉涂布程序或熱壓程序。

12.根據權利要求1所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中使該共軛高分子層產生機械形變的步驟包含借由一個或多個壓模對該共軛高分子層進行壓印。

13.根據權利要求12所述的提升共軛高分子的發光及發電性能的方法，其特征在于，其中該共軛高分子層為共軛高分子薄膜，該壓模包含納米壓模，該壓印包含納米壓印。