[發明專利]記錄裝置、母盤制造裝置、以及制造光盤記錄介質的方法

無效

• 申請號: 201210034290.2
• 申請日: 2012-02-15
• 公開（公告）號: CN102646422A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發明（設計）人: 林忍;齋藤昭也
• 申請（專利權）人: 索尼公司;索尼信息技術股份有限公司
• 主分類號: G11B7/0045
• 分類號: G11B7/0045;G11B7/1263;G11B7/26
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 周少杰

1.一種記錄裝置，包括：

旋轉驅動部分，其旋轉并且驅動光盤母盤；以及

記錄部分，其基于記錄波形通過在光盤母盤上執行激光束照射，執行在光盤母盤上的信息記錄，所述記錄波形具有第一功率的平臺脈沖、具有高于第一功率的第二功率的記錄脈沖的記錄波形部分、以及具有低于第一功率的第三功率并且插入在平臺脈沖和記錄波形部分之間的冷卻脈沖，其中，當以高于第一速度的第二速度在光盤母盤上執行記錄時，與以第一速度執行記錄的情況相比，記錄部分不改變包括記錄波形部分和位于記錄波形部分的兩端的冷卻脈沖的波形部分的長度、以及平臺脈沖的長度，減小冷卻脈沖的前側的冷卻脈沖的長度、并且擴大其后側的冷卻脈沖的長度，從而在光盤母盤上執行記錄。

2.如權利要求1所述的記錄裝置，

其中不同于最短凹坑長度的凹坑長度的記錄波形部分包括多個記錄脈沖。

3.如權利要求2所述的記錄裝置，

其中多個記錄脈沖通過低于第一功率并且高于第三功率的第四功率的連接脈沖連接。

4.如權利要求3所述的記錄裝置，

其中，當第一速度是單倍速度，并且第二速度等于或大于2.5倍速度時，記錄部分設置冷卻脈沖的減小/擴大量為1/4T。

5.一種母盤制造裝置，包括：

母盤創建部分，其在基底的上層形成光敏層以創建光盤母盤，光敏層通過由于激光束照射導致的熱反應感光；

記錄部分，其基于記錄波形通過在要旋轉和驅動的光盤母盤上執行激光束照射，執行在光盤母盤上的信息記錄，所述記錄波形具有第一功率的平臺脈沖、具有高于第一功率的第二功率的記錄脈沖的記錄波形部分、以及具有低于第一功率的第三功率并且插入在平臺脈沖和記錄波形部分之間的冷卻脈沖，其中，當以高于第一速度的第二速度在光盤母盤上執行記錄時，與以第一速度執行記錄的情況相比，記錄部分不改變包括記錄波形部分和位于記錄波形部分的兩端的冷卻脈沖的波形部分的長度、以及平臺脈沖的長度，減小冷卻脈沖的前側的冷卻脈沖的長度、并且擴大其后側的冷卻脈沖的長度，從而在光盤母盤上執行記錄；以及

已記錄的母盤創建部分，其顯影通過記錄部分記錄的光盤母盤，并且創建用凹凸圖案形成的已記錄的母盤。

6.一種光盤記錄介質制造方法，用于制造其上通過凹凸圖案記錄信息的光盤記錄介質，所述方法包括：

在基底的上層形成光敏層以創建光盤母盤，光敏層通過由于激光束照射導致的熱反應感光；

基于記錄波形通過在被旋轉和驅動的光盤母盤上執行激光束照射，執行在光盤母盤上的信息記錄，所述記錄波形具有第一功率的平臺脈沖、具有高于第一功率的第二功率的記錄脈沖的記錄波形部分、以及具有低于第一功率的第三功率并且插入在平臺脈沖和記錄波形部分之間的冷卻脈沖，其中，當以高于第一速度的第二速度在光盤母盤上執行記錄時，與以第一速度執行記錄的情況相比，不改變包括記錄波形部分和位于記錄波形部分的兩端的冷卻脈沖的波形部分的長度、以及平臺脈沖的長度，減小冷卻脈沖的前側的脈沖的長度、并且擴大其后側的脈沖的長度，從而在光盤母盤上執行記錄；

顯影通過信息記錄記錄的光盤母盤，以在光敏層上創建用凹凸圖案形成的已記錄的母盤；

基于已記錄的母盤，創建其上轉印在光敏層上形成的凹凸圖案的壓模；以及

通過使用通過創建壓模創建的壓模，創建光盤記錄介質。