[發(fā)明專利]物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體零件的清潔方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210032173.2
• 申請(qǐng)日: 2012-02-14
• 公開（公告）號(hào): CN103290355A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇金種;劉芳鈺;樸炳俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 金文煥
• 主分類號(hào): C23C14/00
• 分類號(hào): C23C14/00
• 代理公司: 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽;孫佳胤

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明系關(guān)于一種清潔方法，特別是有關(guān)一種用于物理氣相沉積(Physical?Vapor?Deposition,?PVD)的反應(yīng)室腔體的清潔方法。

背景技術(shù)

請(qǐng)參閱附圖1，所示為現(xiàn)有技術(shù)中物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體實(shí)施物理氣相沉積工藝的示意圖。物理氣相沉積工藝主要是在一基板100上沉積一薄膜102。首先利用一直流電源104分別電學(xué)連接至一背板106及一遮覆板108，通過所述背板106及所述遮覆板108于所述反應(yīng)室腔體內(nèi)形成電場(chǎng)將離子槍束110擊向靶材112，其中所述靶材112為純金屬的材質(zhì)所制成。所述離子槍束110撞擊所述靶材112后，會(huì)將所述靶材112上的金屬濺射在所述基板100上而形成所述薄膜102。

而物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體在使用一段時(shí)間后，會(huì)在反應(yīng)室腔體中所述遮覆板108及母材114的表面形成金屬鍍膜(未圖示)，因此必須對(duì)反應(yīng)室腔體進(jìn)行洗凈與再生，防止金屬鍍膜破裂或剝落所產(chǎn)生的粉塵粒子散布至所述基板100而影響良率。所謂洗凈是指針對(duì)反應(yīng)室腔體中所述遮覆板108及所述母材114的金屬鍍膜的材質(zhì)選用適當(dāng)?shù)姆椒ㄅc材料予以去除，例如以酸性或堿性的化學(xué)溶液浸泡反應(yīng)室腔體，將形成于所述遮覆板108及所述母材114表面的金屬鍍膜溶解分離。所謂再生是指洗凈后再以噴砂及整形等方式恢復(fù)所述遮覆板108及所述母材114的原有外形與表面特性。然而上述洗凈及再生皆會(huì)侵蝕與損耗反應(yīng)室腔體中所述遮覆板108及所述母材114的本體厚度，造成使用壽命減短。

此外，對(duì)于反應(yīng)室腔體中的螺絲孔(未圖示)，例如鎖固于所述母材114之間的螺絲孔，上述以化學(xué)溶液浸泡反應(yīng)室腔體、對(duì)所述遮覆板108及所述母材114噴砂及整形等步驟會(huì)使螺絲孔產(chǎn)生擴(kuò)孔現(xiàn)象，因此在多次進(jìn)行洗凈及再生后，會(huì)造成螺絲孔尺寸與原先尺寸有所差異，導(dǎo)致螺絲孔與螺絲在組合時(shí)誤差過大而使得鎖固功能不佳甚至無法繼續(xù)使用。

并且，由于在前述洗凈等過程中，必須使用大量的酸性或堿性的化學(xué)溶液，浸泡遮覆板108及母材114，以溶解金屬鍍膜，使其與遮覆板108及母材114分離。由于不可避免地必須使用大量的酸性或堿性的化學(xué)溶液，不僅洗凈成本大幅提高。使用大量酸性或堿性的化學(xué)溶液，對(duì)于自然環(huán)境也不可避免地造成一定程度的影響。在當(dāng)今環(huán)境保護(hù)意識(shí)明確，盡力避免人類科技發(fā)展與經(jīng)濟(jì)活動(dòng)對(duì)環(huán)境造成危害，而能永續(xù)經(jīng)營且平衡生態(tài)是為當(dāng)今人類的一大課題。

因此，確有需要對(duì)上述反應(yīng)室腔體因洗凈及再生導(dǎo)致使用壽命減短，同時(shí)酸堿化學(xué)溶液大量使用對(duì)環(huán)境造成影響的問題提出解決方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的一目的在于提供一種物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體零件的清潔方法，其能增加物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體的使用壽命。

本發(fā)明的又一目的在于提供一種物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體零件的清潔方法，能簡(jiǎn)化反應(yīng)室腔體零件表面形成的金屬鍍膜的去除過程。

為達(dá)到上述目的，根據(jù)本發(fā)明之一特點(diǎn)是提供一種物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體零件的清潔方法，包括：清洗所述反應(yīng)室腔體零件；對(duì)所述反應(yīng)室腔體零件進(jìn)行涂膜以形成一中介層；以及當(dāng)所述中介層表面累積的金屬鍍膜發(fā)生破裂或剝落后，去除所述中介層。

本發(fā)明之物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體零件的清潔方法通過所述中介層來增加所述反應(yīng)室腔體零件及所述金屬鍍膜兩者之間的黏著力，防止所述金屬鍍膜的掉落。此外，當(dāng)去除所述金屬鍍膜時(shí)，所述中介層作為一接口防止破壞所述反應(yīng)室腔體零件且能簡(jiǎn)化去除過程。

附圖說明

附圖1所示是現(xiàn)有技術(shù)物理氣相沉積的反應(yīng)室腔體實(shí)施物理氣相沉積工藝示意圖。

附圖2所示是根據(jù)本發(fā)明物理氣相沉積反應(yīng)室腔體零件的清潔方法流程圖。

附圖3A至3E所示是所述反應(yīng)室腔體零件的清潔方法示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明。

請(qǐng)參閱附圖1及附圖3A至3E，附圖2所示是根據(jù)本發(fā)明物理氣相沉積反應(yīng)室腔體零件300的清潔方法流程圖，附圖3A至3E所示是所述反應(yīng)室腔體零件300的清潔方法示意圖。

于步驟S200中，清洗所述反應(yīng)室腔體零件300，以去除其表面的粉塵粒子及副生成物，清洗完成后如附圖3A所示。所述反應(yīng)室腔體零件300是指反應(yīng)室腔體內(nèi)部的構(gòu)成組件，例如附圖1所示的所述遮覆板40或所述母材70。所述遮覆板40用以承載附圖1的基板10。所述母材70包括形成反應(yīng)室腔體空間之一底壁及多個(gè)側(cè)壁。