[發明專利]物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法有效
| 申請號： | 201210032173.2 | 申請日： | 2012-02-14 |
| 公開（公告）號： | CN103290355A | 公開（公告）日： | 2013-09-11 |
| 發明（設計）人： | 蘇金種;劉芳鈺;樸炳俊 | 申請（專利權）人： | 金文煥 |
| 主分類號： | C23C14/00 | 分類號： | C23C14/00 |
| 代理公司： | 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽;孫佳胤 |
| 地址： | 韓國臺中縣梧棲*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 物理 沉積 反應 室腔體 零件 清潔 方法 | ||
1.一種物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，包括：
清洗所述反應室腔體零件；
對所述反應室腔體零件進行涂膜以形成一中介層；以及
當所述中介層表面累積的金屬鍍膜發生破裂或剝落后，去除所述中介層。
2.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，所述反應室腔體零件為一遮覆板，用以承載實施物理氣相沉積工藝時的一基板。
3.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，所述反應室腔體零件系為形成反應室腔體空間之一底壁及復數個側壁構成群組中之其一。
4.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，涂膜之材質是可懸浮于非酸性化學溶液的材質或非堿性化學溶液的材質。
5.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，涂膜的材質是符合實施物理氣相沉積制程時的耐溫特性的材質。
6.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，涂膜的材質是增加所述金屬鍍膜及所述反應室腔體零件兩者之間黏合性的材質。
7.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，涂膜的材質系為水溶性的材質。
8.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，涂膜的材質是可懸浮于醇類、丙酮類、異丙酮類或水的材質。
9.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，涂膜的材質為氮化硼。
10.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，所述中介層是通過噴涂或刷涂所述反應室腔體零件表面來形成的。
11.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，在對所述反應室腔體零件進行涂膜以形成所述中介層的步驟之前，進一步包括控制所述反應室腔體零件表面的粗糙度的步驟。
12.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，是利用噴砂來控制所述反應室腔體零件表面的粗糙度。
13.根據權利要求1所述的物理氣相沉積的反應室腔體零件的清潔方法，其特征在于，在當所述中介層表面累積的金屬鍍膜發生破裂或剝落后，去除所述中介層的步驟中進一步包括：
以非酸性溶液或非堿性溶液浸潤所述反應室腔體零件；以及
以加壓水柱或加壓空氣沖灌所述反應室腔體零件。
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