[發(fā)明專利]光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)及光刻機(jī)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210030413.5
• 申請(qǐng)日: 2012-02-10
• 公開（公告）號(hào): CN102540764A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳艷艷;王劍鋒;王琳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海先進(jìn)半導(dǎo)體制造股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;F21V29/02
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)，包括排風(fēng)管，所述排風(fēng)管一端連接所述光源單元，另一端外接廠務(wù)排風(fēng)單元，其特征在于，所述光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)還包括一鼓風(fēng)機(jī)，所述鼓風(fēng)機(jī)設(shè)置于所述排風(fēng)管上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)，其特征在于，所述鼓風(fēng)機(jī)為低壓鼓風(fēng)機(jī)，壓力范圍是100pa～200pa。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)，其特征在于，所述光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)還包括一閥門，所述閥門設(shè)置于所述排風(fēng)管上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項(xiàng)所述的光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)，其特征在于，所述鼓風(fēng)機(jī)與所述光源單元的距離是0.5-2米。

5.一種光刻機(jī)，包括光源單元、光路傳輸系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)與光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)，所述光源單元發(fā)出的光經(jīng)所述光路傳輸系統(tǒng)傳遞到所述曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光源單元的排風(fēng)系統(tǒng)包括排風(fēng)管和鼓風(fēng)機(jī)，所述排風(fēng)管一端連接所述光源單元，另一端外接廠務(wù)排風(fēng)單元，所述鼓風(fēng)機(jī)設(shè)置于所述排風(fēng)管上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述光源單元采用汞燈單元。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述鼓風(fēng)機(jī)為低壓鼓風(fēng)機(jī)，壓力范圍是100pa～200pa。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)為步進(jìn)光刻機(jī)。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)還包括一閥門，所述閥門設(shè)置于所述排風(fēng)管上。

10.根據(jù)權(quán)利要求5～9中任意一項(xiàng)所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述鼓風(fēng)機(jī)與光源單元的距離是0.5-2米。