[發明專利]薄膜太陽能電池無效
| 申請號: | 201210028190.9 | 申請日: | 2012-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN103187460A | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發明(設計)人: | 彭振維;黃昭雄;曹耀中 | 申請(專利權)人: | 聯相光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0376 | 分類號: | H01L31/0376;H01L31/075 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址: | 中國臺灣臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 太陽能電池 | ||
技術領域
本發明是有關于一種薄膜太陽能電池,特別是一種改變現有薄膜太陽能電池的半導體層中的I型層的構成材料,以有效提升轉換效率的薄膜太陽能電池。
背景技術
近來由于環保意識的抬頭和其它能源的逐漸枯竭短缺,太陽能源又開始受到高度的重視。太陽光是取之不盡、用之不竭的天然能源,除了沒有能源耗盡的疑慮之外,也可以避免能源被壟斷的問題。由于太陽能電池具有使用方便、無污染、使用壽命長等優點,因此可以利用太陽能電池作為能源的取得。
目前一般常用的太陽能電池又可包含薄膜太陽能電池,其具有成本較低、厚度較薄和電能功率耗損較少等的優點。就現有技術而言,一般常見的薄膜太陽能電池1在基本制程中,主要是以P-I-N半導體層12的三層結構構成為主,該半導體層12包含了P型層121、I型層122及N型層123,且該半導體層12是以P型層121、I型層122及N型層123的順序,依序經由濺鍍或是化學氣相沉積方式在電極層11上,如圖1所示。且在現有技術中,本質硅薄膜主要成分為氫原子與硅原子,在正常情況下氫原子與硅原子以非晶硅(amorphous,a-Si)形式存在,呈現無序雜亂排列光照時易造成轉換效率衰退。
然而,薄膜太陽能電池發展至今,技術雖漸趨成熟,但仍然有許多尚待改進之處,其主因在于,薄膜太陽能電池的轉換效率依然不夠高。
發明內容
鑒于上述現有技術的問題,本發明的目的就是提供一種薄膜太陽能電池,以解決現有技術的薄膜太陽能電池的轉換效率較差的問題。
根據本發明的目的,提出一種薄膜太陽能電池,包含電極層以及半導體層。半導體層包含P型層、I型層及N型層。P型層位于電極層上。I型層包含I型非晶硅層及I型短程有序非晶硅層,I型非晶硅層位于P型層上,I型短程有序非晶硅層位于I型非晶硅層上。N型層位于I型短程有序非晶硅層上。其中I型非晶硅層占I型層的厚度比例大于I型短程有序非晶硅層所占的比例。
進一步地,本發明所述的薄膜太陽能電池更包含基板,電極層位于基板上。
進一步地,基板的材質包含金屬或不透光的玻璃。
進一步地,電極層為透明導電薄膜,是由摻雜氟的二氧化錫或氧化鋅摻硼構成。
進一步地,I型非晶硅層的厚度可為2300埃。
進一步地,I型短程有序非晶硅層的厚度可為200埃。
進一步地,I型非晶硅層占I型層的厚度比例為92%,I型短程有序非晶硅層占I型層的厚度比例為8%。
進一步地,I型短程有序非晶硅層占I型層的厚度比例進一步可調整至9%~92%,而I型非晶硅層則相對調整至91%~8%。
進一步地,I型層在經由電漿輔助化學氣相沉積制程中,通過調整一制程參數,以改變I型層中氫原子與硅原子的排列,從而在I型層中形成有短程有序非晶硅層;其中,制程參數的調整包含壓力調整至大于80pa,溫度調整至小于200℃。
進一步地,I型層中的非晶硅層及短程有序非晶硅層的辨別,通過一穿透式電子顯微鏡拍攝I型層的繞射圖形來達成。
根據本發明的目的,又提出一種薄膜太陽能電池,其包含電極層以及半導體層。半導體層包含P型層、I型層及N型層。P型層位于電極層上。I型層包含I型非晶硅層及I型短程有序非晶硅層,I型非晶硅層位于P型層上,I型短程有序非晶硅層位于I型非晶硅層上。N型層位于I型短程有序非晶硅層上。其中,I型非晶硅層占I型層的厚度比例小于I型短程有序非晶硅層所占的比例。
進一步地,I型非晶硅層的厚度可為200埃。
進一步地,I型短程有序非晶硅層的厚度可為2300埃。
進一步地,I型非晶硅層占I型層的厚度比例為8%,I型短程有序非晶硅層占I型層的厚度比例為92%。
進一步地,I型短程有序非晶硅層占I型層的厚度比例進一步可調整至91%~8%,而I型非晶硅層則相對調整至9%~92%。
根據本發明的目的,再提出一種薄膜太陽能電池,其包含電極層以及半導體層。半導體層包含P型層、I型層及N型層。P型層位于電極層上。I型層包含I型短程有序非晶硅層及I型非晶硅層,I型短程有序非晶硅層位于P型層上,I型非晶硅層位于I型短程有序非晶硅層上。N型層位于I型非晶硅層上。其中,I型非晶硅層占I型層的厚度比例大于I型短程有序非晶硅層所占的比例。
進一步地,I型非晶硅層的厚度可為2300埃。
進一步地,I型短程有序非晶硅層的厚度可為200埃。
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H01L31-02 .零部件
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H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





