[發明專利]Mn-Co-Ni-O熱敏薄膜的濕法刻蝕方法

有效

• 申請號: 201210026626.0
• 申請日: 2012-02-07
• 公開（公告）號: CN102592983A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 黃志明;周煒;張雷博;侯云;吳敬;褚君浩
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306;H01L31/18
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種Mn-Co-Ni-O熱敏薄膜的濕法刻蝕方法，其特征在于包括以下步驟：

1)清洗：分別取在氧化鋁襯底上生長的MCN樣品片數片，置于盛有丙酮的玻璃培養皿中超聲清洗，用鑷子取出實驗片，置于盛有酒精的玻璃培養皿中超聲清洗，去離子水、酒精沖洗，干凈的氮氣將試驗片吹干待用；

2)甩膠光刻：在暗室中進行甩膠操作，使用正性光刻膠甩膠，預烘干，曝光，顯影，得到所需保護的圖形，去離子水清洗后吹干，后烘，取出備用；

3)配制刻蝕液：使用碘化鉀的還原性完成Mn-Co-Ni-O熱敏薄膜的腐蝕；使用鹽酸提供酸性環境，以提高刻蝕速率，在2mol/L鹽酸中加入碘化鉀粉末，按照每10毫升酸溶液加5克到8.3克的比例加入碘化鉀粉末，搖勻，得到淡黃色澄清刻蝕液；

4)取樣品，進行濕法刻蝕，根據刻蝕速率及膜厚估計刻蝕時間，用聚四氟乙烯鑷子夾住樣品片，將其放入刻蝕液中來回輕輕搖動，同時按下秒表計時，參考預估的刻蝕時間，待透明的氧化鋁基底片肉眼可辨時，用鑷子將樣品片取出，用去離子水沖洗干凈；

5)去膠、清洗，使用超聲清洗機對樣片進行丙酮超聲清洗、酒精超聲清洗各2-5分鐘，去除光刻膠；使用去離子水將樣品片沖洗干凈，用干凈的氮氣吹干。